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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술대회자료
- 저자정보
- 발행연도
- 2021.5
- 수록면
- 202 - 202 (1page)
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Blank masks are the key components of the semiconductor manufacturing devices. For better performance of the semiconductor chips, the thickness of the blank mask should be measured with nano-scale precision. Wavelength-tuning interferometry has been widely used for thickness measurement of the blank masks because of its high resolution and non-destructive measurement. However, measurement accuracy suffers from harmonic components and the non-linear properties of the wavelength tuning. In this study, a new phase-iterative method was developed to derive the 5-frame phase-extraction algorithm for thickness measurement of the blank mask. To suppress ... 전체 초록 보기
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