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논문 기본 정보

자료유형
학술대회자료
저자정보
J. R. Jeon (부산대학교) S. T. Kim (부산대학교) Y. J. Kim (부산대학교)
저널정보
Korean Society for Precision Engineering 한국정밀공학회 학술발표대회 논문집 한국정밀공학회 2021년도 춘계학술대회 논문집
발행연도
2021.5
수록면
200 - 200 (1page)

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Silicon wafers have been broadly used in electronics industry as main components of semiconductor chips. Because the geometric characteristics of silicon wafer-such as surface shape and thickness-determine performance of the semiconductor chips, these are necessary to be estimated thoroughly and measured under nanoscale uncertainty. Among optical profilometry techniques, wavelength-tuning interferometry has been widely used for precise measurement of the silicon wafer surface. In this technique, phase difference between sample and reference surface changes linearly by the wavelength tuning and interferograms are acquired with equal phase intervals. The phase distribution can be calculated using a phase-extraction algorithm. However ... 전체 초록 보기
#Correlated error #Phase-extraction algorithm #Silicon wafer #Surface shape #Wavelength-tuning interferometry

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