플라즈마 화학증착법 및 진공 화학 증착법에 의한 텅스텐 박막의 특성 비교 ( I ) ( Characteristic Comparison of Plasma Enhanced CVD and Vacuum CVD Tungsten Thin Films )

김용태 ,  민석기 ,  홍종성 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1990 .01

LPCVD 방식으로 SiO₂ 위에 증착된 텅스텐 박막의 특성 분석

윤선필 ,  노관종 ,  황성민 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1999 .11

기상화학증착 텅스텐 막질의 표면 형태에 관한 연구

전동수 ,  김선래 ,  이성영 외 2명

대한전자공학회 학술대회

2008 .06

플라즈마 화학증착 텅스텐 박막 특성에 미치는 표면 반응온도의 영향 ( Effects of Surface Reaction Temperature on the Properties of Plasma Enhanced CVD Tungsten Thin Films )

김용태 ,  민석기 ,  이명복 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1990 .07

TiN 상에서의 CVD텅스텐막의 성장

김의송 ,  이종무 ,  이종길

한국재료학회 학술발표대회

1992 .01

Cycle-CVD법으로 증착된 TiN 박막의 ALD 증착기구와 특성에 관한 연구

민재식 ,  손영웅 ,  강원구 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1998 .01

전처리가 CVD 텅스텐의 핵생성에 미치는 효과

이종무 ,  권난영 ,  김의송 외 1명

한국재료학회 학술발표대회

1992 .01

CVD Pt 박막의 증착과 특성 분석

이종명 ,  황철성 ,  석창길 외 1명

한국재료학회 학술발표대회

1997 .01

접합층을 이용한 선택 텅스텐 화학기상증착 공정연구 ( A Study of Selective W-CVD Process Using the Glue Layer )

최경근 ,  황성보 ,  박흥락 외 1명

전자공학회논문지-A

1992 .12

SiH₄를 이용한 텅스텐의 화학증착시 압력증가가 증착에 미치는 영향

박재현 ,  이정중 ,  금동화

한국표면공학회지

1993 .02

초고집적 소자를 위한 화학증착 알루미늄 박막의 증착 특성에 관한 연구

김영성 ,  이경일 ,  주승기

한국재료학회 학술발표대회

1993 .01

통계적 기법을 이용한 선택적 CVD 텅스텐 공정 최적화 연구 ( The Optimization of the Selective CVD Tungsten Process using Statistical Methodology )

황성보 ,  최경근 ,  박흥락 외 1명

전자공학회논문지-A

1993 .12

화학증착 알루미늄 박막의 표면 상태 개선에 관한 연구

김영성 ,  이경일 ,  주승기

한국표면공학회지

1993 .06

사일린 환원반응에 의한 텅스텐 박막의 화학증착 ( Chemical Vapor Deposition of Tungsten by Silane Reduction )

황성보 ,  최경근 ,  이시우

전자공학회논문지

1990 .10

반응기판의 회전 속도에 따른 CVD 반응기 내의 유동 특성과 증착률에 관한 수치적 연구

백재상 ,  부진효 ,  한전건 외 1명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2007 .04

ALE법으로 증착된 ZnO 박막의 PL특성

임종민 ,  홍현석 ,  신경철 외 1명

한국재료학회 학술발표대회

2003 .01

LPCVD 텅스텐 박막에 관한 고찰

장원익 ,  유형준

[ETRI] 전자통신동향분석

1987 .12

스퍼터링 방법으로 증착된 TiN층의 RTA 처리가 텅스텐 화학 기상 증착시 결함 ( defect ) 형성에 미치는 영향 ( Effects of Rapid Thermal Annealing of Sputtered TiN on Defect Formation During CVD of W )

염승진 ,  황성보 ,  김춘환 외 3명

대한전자공학회 워크샵

1996 .01