새로운 CVD 방법에 의하여 제작된 실리콘 박막의 특성 연구 ( Characterization of Silicon Thin Films Prepared by New CVD Technique )

김성철 ,  이승규 ,  정창영 외 5명

대한전자공학회 학술대회

1989 .07

CVD-Cu film의 특성에 증착온도가 미치는 영향

민재식 ,  이원준 ,  라사균 외 2명

한국재료학회 학술발표대회

1994 .01

CVD에 의한 SnO₂ Film 제조시 증착조건이 Film의 증착속도 및 물리적 성질에 미치는 영향

이동윤 ,  이상래

한국표면공학회지

1985 .09

RP-CVD에 의한 비정질 실리콘 박막의 특성 ( Characterization of a-Si : H films deposited by a remote plasma CVD )

황정태 ,  정창영 ,  정관수 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1989 .11

Laser CVD에 의한 비정질 실리콘 박막 형성에 관한 연구

유환성 ,  박근영 ,  류지호 외 3명

대한전기학회 학술대회 논문집

1993 .07

CVD 기술동향

송주호

전자공학회지

2001 .08

Hot Wire CVD법에 의한 미세결정 실리콘 박막의 저온 증착

이정철 ,  강기환 ,  김석기 외 3명

대한전기학회 학술대회 논문집

2000 .07

DEPOSITION OF A-SIC : H FILMS ON AN UNHEATED SI SUBSTRATE BY LOW FREQUENCY (50㎐) PLASMA Cvd

M. Shimozuma ,  K. Iba ,  agi 외 5명

한국표면공학회지

1996 .12

Polyimide 기판을 이용한 CVD-Cu 박막 형성기술

조남인 ,  임종설 ,  설용태

한국산학기술학회 논문지

2000 .06

화학 증착법에 의한 텅스텐 박막 ( CVD-W )

이시우 ,  김원규

전자공학회지

1988 .08

수평 및 수직형 CVD 증착로의 실리콘 부착에 관한 수치해석 ( Numerical Analysis of Silicon Deposition in Horizontal & Vertical CVD Reactor )

김인 ,  백병준

대한기계학회 논문집 B권

2002 .03

플라즈마 화학증착법 및 진공 화학 증착법에 의한 텅스텐 박막의 특성 비교 ( I ) ( Characteristic Comparison of Plasma Enhanced CVD and Vacuum CVD Tungsten Thin Films )

김용태 ,  민석기 ,  홍종성 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1990 .01

ECR CVD를 이용한 비정질 실리콘 박막의 증착 조건과 광학적 특성

강문상 ,  김재영 ,  전법주 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1996 .11

ECR CVD를 이용한 비정질 실리콘 박막의 증착 조건과 광학적 특성 ( The Deposition Condition and Optical Characteristics of A-Si : H Films Deposited By ECR CVD )

강문상 ,  김재영 ,  전법주 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1996 .11

CVD 다이아몬드 박막 기판의 방열 특성

임종환 ,  강찬형

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2015 .11

Laser CVD에 의한 비정질 실리콘 박막 형성

박근영 ,  유환성 ,  류지호 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1993 .07

Laser Crystallization of a-Si:H films prepared at Ultra Low Temperature( $ < 150^{\circ}C$) by Catalytic CVD

Lee ,  Sung-Hyun ,  Hong 외 20명

한국정보디스플레이학회 International Meeting

2005 .01

고주파 플라즈마 CVD에 의한 저 압력에서의 다이아몬드 막의 성장

具孝根 ,  朴相鉉 ,  朴在潤 외 1명

전기학회논문지 C

2001 .02