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대한전자공학회 대한전자공학회 학술대회 대한전자공학회 학술대회 논문집 제13권 1호
발행연도
1990.7
수록면
274 - 278 (5page)

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1990

플라즈마 화학증착 텅스텐 박막 특성에 미치는 표면 반응온도의 영향 ( Effects of Surface Reaction Temperature on the Properties of Plasma Enhanced CVD Tungsten Thin Films )
김용태 ,  민석기 ,  이명복 외 3명 대한전자공학회 학술대회 1990.07 학술대회자료
SiH4 / WF6 변화에 따른 플라즈마 화학증착 텅스텐의 플라즈마 분광분석 ( II ) ( Plasma Emission Spectroscopy of Plasma Enhanced CVD-W Deposition with the Variations of SiH4 / WF6 Ratio )
김용태 ,  민석기 ,  홍종성 외 1명 대한전자공학회 학술대회 1990.01 학술대회자료
플라즈마 화학증착법 및 진공 화학 증착법에 의한 텅스텐 박막의 특성 비교 ( I ) ( Characteristic Comparison of Plasma Enhanced CVD and Vacuum CVD Tungsten Thin Films )
김용태 ,  민석기 ,  홍종성 외 2명 대한전자공학회 학술대회 1990.01 학술대회자료

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김용태 ,  민석기 ,  홍종성 외 2명 대한전자공학회 학술대회 1990 .01

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