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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술대회자료
- 저자정보
- 발행연도
- 2003.11
- 수록면
- 1,915 - 1,920 (6page)
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Nano-imprint technology has been vigorously studied by many researchers for it is one of the
most promising technologies for manufacturing the pattern with its critical dimension below 100nm. In
the nano-imprint technology, nano patterns are transferred on a polymer film and the transferred
patterns are used as an etch mask to define the designed patterns on a substrate or a metal layer. To
this end, it is important to keep the residual thickness of the imprinted polymer film uniform. In this
study, a novel measurement technique to measure the residual thickness of films is proposed based on
nanoindentation theory. This technique has advantages of saving time and measuring the residual
thickness of highly-localized portions in comparison with other techniques, but has limitation of
requiring calibration process.
most promising technologies for manufacturing the pattern with its critical dimension below 100nm. In
the nano-imprint technology, nano patterns are transferred on a polymer film and the transferred
patterns are used as an etch mask to define the designed patterns on a substrate or a metal layer. To
this end, it is important to keep the residual thickness of the imprinted polymer film uniform. In this
study, a novel measurement technique to measure the residual thickness of films is proposed based on
nanoindentation theory. This technique has advantages of saving time and measuring the residual
thickness of highly-localized portions in comparison with other techniques, but has limitation of
requiring calibration process.
목차
Abstract
1.서론
2. 나노인덴테이션의 개요
3. 압입시험을 통한 두께측정 방법
3. 임프린트용 소재 박막의 두께측정
4.결론
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