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논문 기본 정보

자료유형
학술대회자료
저자정보
강지훈 (한국과학기술원) 김광섭 (한국과학기술원) 김경웅 (한국과학기술원)
저널정보
한국트라이볼로지학회 한국트라이볼로지학회 학술대회 한국윤활학회 2006년도 제42회 춘계학술대회
발행연도
2006.6
수록면
87 - 94 (8page)

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이 논문의 연구 히스토리 (7)

2010

분자동역학을 이용한 열나노임프린트 리소그래피 소재 및 자기조립단분자막의 표면에너지 및 점착에너지의 예측
강지훈 ,  허정철 ,  김광섭 외 1명 한국트라이볼로지학회 학술대회 2010.06 학술대회자료

2006

공정인자들이 나노임프린트 리소그래피 공정에 미치는 영향에 대한 분자동역학 연구
강지훈 ,  김광섭 ,  김경웅 Tribology and Lubricants 2006.10 학술저널
공정인자들이 나노임프린트 리소그래피 공정에 미치는 영향에 대한 분자동역학 연구
강지훈 ,  김광섭 ,  김경웅 한국트라이볼로지학회 학술대회 2006.06 학술대회자료

2005

분자 동역학을 이용한 나노임프린트 리소그래피에서의 패턴 전사에 관한 연구
강지훈 ,  김광섭 ,  김경웅 Tribology and Lubricants 2005.08 학술저널
분자 동역학을 이용한 나노임프린트 리소그래피에서의 패턴 전사에 관한 연구
강지훈 ,  김광섭 ,  김경웅 한국트라이볼로지학회 학술대회 2005.06 학술대회자료
나노임프린트 리소그래피에서의 폴리머 레지스트의 변형에 관한 분자 동역학 시뮬레이션
강지훈 ,  김광섭 ,  김경웅 대한기계학회 논문집 A권 2005.06 학술저널

2004

나노임프린트 리소그래피에서의 폴리머 레지스트의 변형에 관한 분자 동역학 시뮬레이션
강지훈 ,  김광섭 ,  김경웅 대한기계학회 춘추학술대회 2004.11 학술대회자료

초록· 키워드

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Molecular dynamics simulations of nanoimprint lithography (NIL) are performed in order to investigate effects of process parameters, such as stamp shape, imprinting temperature and adhesive energy, on nanoimprint lithography process and pattern transfer. The simulation model consists of an amorphous SiO₂ stamp with line pattern, an amorphous poly-(methylmethacrylate) (PMMA) film and an Si substrate under periodic boundary condition in horizontal direction to represent a real NIL process imprinting long line patterns. The pattern transfer behavior and its related phenomena are investigated by analyzing polymer deformation characteristics, stress distribution and imprinting force. In addition, their dependency on the process parameters are also discussed by varying stamp pattern shapes, adhesive energy between stamp and polymer film, and imprinting temperature. Simulation results indicate that triangular pattern has advantages of low imprinting force, small elastic recovery after separation, and low pattern failure. Adhesive energy between surfaces is found to be critical to successful pattern transfer without pattern failure. Finally, high imprinting temperature above glass transition temperature reduces the imprinting force.
#nanoimprint inthography(나노임프린트 리소그래피) #molecular dynamics simulation(분자동역학 모사) #process parameters(공정인자) #pattern transfer(패턴전사)

목차

ABSTRACT
1. 서론
2. 해석 방법
3. 결과 및 고찰
4. 결론
후기
참고문헌

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