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이용수
서론
실험
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Deposition Mechanism of Tungsten thin Film in LPCVD System
Applied Science and Convergence Technology
1993 .09
마이크로파 플라즈마 화학기상증착법(PECVD)과 저압 화학기상증착법(LPCVD)을 이용한 실리콘 기판 위에서의 텅스텐 박막증착
Applied Science and Convergence Technology
1992 .06
The Study of W Deposition on Si Substrate by SiH₄ Reduction of WF6 LPCVD System
한국진공학회 학술발표회초록집
1992 .02
LPCVD를 이용한 Poly-Si박막 증착 및 박막 트랜지스터 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2010 .02
LPCVD로 성장된 텅스텐 게이트의 물리ㆍ전기적 특성 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
1999 .07
LPCVD에 의한 텅스텐 실리사이드 게이트 증착 및 RTP 열처리에 의한 특성 변화 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2000 .07
Si₃N₄상에 PECVD법으로 형성한 텅스텐 박막의 특성
Applied Science and Convergence Technology
1998 .05
CVD 텅스텐의 응력 및 접합 누설전류 특성
Applied Science and Convergence Technology
1992 .02
저압에서의 사일렌과 디사일렌의 열분해 반응에 관한 연구
Applied Science and Convergence Technology
1995 .12
LPCVD법으로 증착된 비정질 실리콘박막의 고상결정화에 미치는 자기이온주입효과
한국진공학회 학술발표회초록집
1996 .02
LPCVD로 증착한 텅스텐 박막의 증착 조건 제어에 의한 접착성 및 저항 특성 향상
Applied Science and Convergence Technology
2000 .12
SiH₂Cl₂와 NH₃를 이용하여 원자층 증착법으로 형성된 실리콘 질화막의 특성
Applied Science and Convergence Technology
2004 .09
Characteristics of Oxide Films Deposited with Remote Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition at Low Temperatures From SiH₄-N₂O
Applied Science and Convergence Technology
1994 .12
: LPCVD 실리콘 박막의 저온 열처리에 따른 결정화 거동에 관한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
1992 .02
Process Optimization of PECVD SiO2 Thin Film Using SiH4/O2 Gas Mixture
한국진공학회 학술발표회초록집
2012 .02
TiSi gate 및 텅스텐 B / L spacer용 SiN 박막 증착 공정 개발
한국진공학회 학술발표회초록집
1997 .02
LPCVD 공정시간에 따른 silicon 의 결정화 특성 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2006 .08
TiN 위에 텅스텐의 저압화학증착
한국진공학회 학술발표회초록집
1992 .02
SF6 플라즈마를 이용한 텅스텐 박막의 반응성 이온 식각
한국진공학회 학술발표회초록집
1992 .07
반구형 LPCVD 다결정 실리콘 박막의 구조 및 특성
한국진공학회 학술발표회초록집
1992 .02
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