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저널정보
한국진공학회 한국진공학회 학술발표회초록집 한국진공학회 제6회 학술발표회논문개요집
발행연도
1994.2
수록면
76 - 77 (2page)

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이 논문의 연구 히스토리 (4)

1994

고속 열 확산에 의한 얕은 접합 형성과 Ti - 실리사이드화된 n - p 다이오드 특성 분석 ( The Formation of the Shallow Junction by RTD Characteristic Analysis for n - p Diode with Ti - silicide )
최도영 ,  이성욱 ,  주정규 외 3명 전자공학회논문지-A 1994.08 학술저널
고속 열 확산에 의한 얕은 접합 형성과 Ti - 실리사이드화된 n+ - p 다이오드 특성 분석
최도영 ,  이성욱 ,  주정규 외 3명 한국진공학회 학술발표회초록집 1994.02 학술대회자료
고체 확산에 의한 얕은 접합 형성과 Ti-실리사이드화된 n+ -P 다이오드 특성 분석
최도영 ,  이성욱 ,  주정규 외 3명 대한전자공학회 학술대회 1994.01 학술대회자료

1993

고속열확산에 의한 얕은 접합 형성과 Ti-실리사이드화 된 n+ -P 다이오드 특성분석 ( The formation of the Shallow Junction by Rapid Thermal Diffusion and characteristic Analysis for n+ -p Diode with Ti-silicide )
최도영 ,  이성욱 ,  주정규 외 3명 대한전자공학회 학술대회 1993.11 학술대회자료

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목차

Ⅰ. 서론

Ⅱ. 실험

Ⅲ. 실험 결과 및 고찰

Ⅳ. 결론

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황유상 ,  백수현 ,  조현춘 외 3명 분석과학 1992 .06

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