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Characteristics of HfO2-Al2O3 Gate insulator films for thin Film Transistors by Pulsed Laser Deposition
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .02
Transparent Thin Film Transistor using Al₂O₃/HfO₂ as Gate Insulator Layer
한국진공학회 학술발표회초록집
2009 .02
The effect of surface on electrical properties of OTFTs using HfO₂ film as the gate insulator
한국진공학회 학술발표회초록집
2008 .08
Electrical Characteristics of Multi-Layered Al₂O₃/HfO₂/Al₂O₃ Gate Dielectric Films
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .08
Etching characteristics of HfAlO₃ thin films with addition N₂ gas using adaptively coupled plasma system
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
Si₃N₄/HfAlO 터널 절연막을 이용한 나노 부유 커패시터의 전기적 특성 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2011 .02
Properties of HfSixOy/HfO₂ film as a various Annealing Temperature
한국진공학회 학술발표회초록집
2008 .08
Stability of gate insulator using NH₃ plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2009 .02
Electrical properties of solution processed HfO₂ gate dielectrics at low temperature
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
Investigation of band alignments of HfO₂ and Al₂O₃ thin films using XPS
한국진공학회 학술발표회초록집
2004 .08
DC and RF Characteristics of HfO₂ in Metal-Insulator-Metal Capacitor
한국진공학회 학술발표회초록집
2008 .02
A study of MOS characteristics of reoxidized HfO₂ thin film for gate oxide applications
한국진공학회 학술발표회초록집
2001 .07
Improvement of Thin Film Characteristics by Controlling Nitrogen Contents Ratio of Silicon Oxynitride Gate Insulator Layer
한국진공학회 학술발표회초록집
2014 .08
Thermodynamic Stability and Interface Chemical Reaction in HfO₂Laminate Films
한국진공학회 학술발표회초록집
2003 .08
RF Sputtering의 증착 조건에 따른 HfO₂ 박막의 Nanocrystal에 의한 Nano-Mechanics 특성 연구
Applied Science and Convergence Technology
2012 .09
Heat Treatment Effects of Staggered Tunnel Barrier (Si3N4 / HfAlO) for Non-volatile Memory Application
한국진공학회 학술발표회초록집
2010 .08
Electric Characteristics of HfO₂ deposited by Atomic Layer Deposition
한국진공학회 학술발표회초록집
2008 .08
Effects of N₂ Anneal on Electrical Properties of HfO₂ Film on Si Substrate
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
Influence of O₂ Anneal on the Electrical Properties of HfO₂ thin Film on Si Substrate
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
Investigation of HfO₂-Al₂O₃laminate and Hf - Al- O films with poly - Si Gates
한국진공학회 학술발표회초록집
2003 .02
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