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Due to their high surface area that contacts the resist to the stamp, the strong adhesion of the imprinted resist to the stamp is one of the key reliability issues for the further progress in Nanoimprint Lithography(NIL). We have studied on the improved vapor-phase ultrathin coating method for the stamp release. The anti-stiction monolayer films deposited from Trichloro- (1H,1H,2H,2H-perfluorooctyl)silane and methyltrichlorosilane were characterized using contact angle analysis, atomic force microscopy(AFM) and x-ray photoelectron spectroscopy(XPS). The vapor- phase deposited monolayers were more effective than liquid-phase deposition in penetration into the nanoscale gaps of the mold and in film quality.

목차

Abstract
1. 서론
2. 실험
3. 결과
4. 결론
참고문헌

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