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저널정보
Korean Society for Precision Engineering Journal of the Korean Society for Precision Engineering 한국정밀공학회지 Vol.25 No.1
발행연도
2008.1
수록면
130 - 137 (8page)

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Two-photon stereo lithography (TPS) is recognized as a useful process for the fabrication of three-dimensional microstructures. Recently, the need for a two-photon curable resin with high strength increases as 3-D microstructures of high aspect ratio or large scale of several hundreds micrometers are required for applications of nano/micro devices in IT/BT. In this work, process parameters of TPS employing the SU-8 which is a representative two-photon curable resin with high strength have been studied for the precise fabrication of 3-D microstructures with high strength. The pre-baking and post-baking processes are studied and the parameter study of the SU-8 in TPS is conducted. Through this work, very small roughness of 12 ㎚ and the minimum aspect ratio of ~1 which provides a precise accumulation of layers could be obtained. Using the conditions studied in this work, some 3-D examples are fabricated.
#Two-photon stereolithography process(이광자 흡수 광조형 공정) #Three-dimensional microstructure(3차원 마이크로 형상) #SU-8(에폭시 계열의 광경화성 수지)

목차

ABSTRACT
1. 서론
2. SU-8의 이광자 흡수 광조형 공정
3. 정밀한 고강성 3차원 형상 제작
4. 결론
후기
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