Anisotropic Etching of Tungsten with ICP System

정창영 ,  송기창 ,  전영삼 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1997 .01

A Research on the Anisotropic Etching of Tungsten-Nitride for X-Ray Mask

H. G. Lee ,  C. Y. Jeong ,  S. Y. Lee 외 6명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

X-선 마스크 제작을 위한 텅스텐 식각

정창영 ,  송기창 ,  전영삼 외 2명

한국재료학회 학술발표대회

1996 .01

Estimation of tungsten tip by electrochemical etching

Duy-Cuong Le ,  Huyn-Chul Kim

한국생산제조학회 학술발표대회 논문집

2012 .10

Enhanced-Inductively Coupled Plasma (E-ICP)를 이용한 Silylated photoresist 식각공정개발

박세근 ,  이종근 ,  조수범 외 3명

전기전자재료학회논문지

2002 .01

ICP 식각 시스템에 의한 초전도 스트립 라인의 임계 특성 분석

고석철 ,  한병성 ,  최효상 외 2명

전기전자재료학회논문지

2004 .01

TYNGSTEN ETCHBACK PROCESS FOR SUB-HALF MICRON CONTACTS USING HELICON HIGH DENSITY PLASMA

Kwon ,  O.Sung ,  Choi 외 7명

Fabrication and Characterization of Advanced Materials

1995 .01

SiO₂ 식각 특성 개선을 위한 E-ICP와 ICP 식각 비교

정재성 ,  김진우 ,  라상호 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1999 .11

Optimized Process Analysis of SiO₂ etch using CFD Simulation

Han-Bit Kim ,  Tae-Ho shin ,  Byeong-Gwan ji 외 7명

대한전자공학회 학술대회

2017 .01

Use of Hard Mask for Finer (<10 μm) Through Silicon Vias (TSVs) Etching

홍상진 ,  최소망

Transactions on Electrical and Electronic Materials

2015 .01

C₄F₈/O₂ 공정기체와 E-ICP를 이용한 산화막 식각

송호영 ,  조수범 ,  이종근 외 2명

대한전자공학회 학술대회

2001 .06

E-ICP와 ICP를 이용한 MIS(Mo/HfO₂/Si) Capacitor의 Plasma Etching Damage 연구

유한석 ,  양승국 ,  김한형 외 3명

대한전자공학회 학술대회

2007 .07

E-ICP와 ICP를 이용한 MIS(Mo/HfO₂/Si) Capacitor의 Plasma Etching Damage 연구

유한석 ,  양승국 ,  김한형 외 3명

대한전자공학회 학술대회

2007 .07

ICP Etching of RuO2 Thin films

이종근 ,  정형섭 ,  박세근 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1997 .01

ICP 플라즈마를 이용한 W$N_{x}$의 이방성 식각

정창영 ,  송기창 ,  전영삼 외 3명

한국재료학회 학술발표대회

1997 .01

전기화학적 에칭에 의한 AFM용 텅스텐 탐침의 강성 제어

한규범 ,  이승제 ,  안효석

Tribology and Lubricants

2014 .08

Cl2/HBr/CF4 반응성 이온 실리콘 식각 후 감광막 마스크 제거

하태경 ,  우종창 ,  김관하 외 1명

전기전자재료학회논문지

2010 .01

The Fabrication Method of Tip Array by Glass Deep Dry Etching Process

박태규 ,  민정기 ,  오영택 외 1명

한국생산제조학회 학술발표대회 논문집

2011 .04

Fine Patterning of CVD Tungsten Using Various Mask Materials

J. G. Lee ,  C. H. Kang ,  J. K. Kim 외 1명

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1991 .01