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이용수
Abstract
1. INTRODUCTION
2. EXPERIMENT
3. RESULTS AND DISSCUSSION
4. CONCLUSIONS
References
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Dry Etching characteristics of GaN Using Reactive Ion Beam
OPTOELECTRONICS & COMMUNICATIONS CONFERENCE
1997 .01
평판형 유도 결합 플라즈마를 이용한 GaN 건식 식각 특성
대한전기학회 학술대회 논문집
1997 .11
DRY ETCHING TECHNOLOGY
ICVC : International Conference on VLSI and CAD
1995 .01
Plasma 공정에 의한 고출력 E-mode GaN 전력반도체 특성 연구
대한전자공학회 학술대회
2020 .08
$\textrm{Cl}_{2}/\textrm{H}_{2}$ 플라즈마 조건이 n-GaN 식각 특성 및 저저항 접촉 형성에 미치는 영향
한국재료학회지
1999 .01
p-GaN/AlGaN/GaN E-mode FET 제작을 위한 선택적 GaN 식각 공정 개발
한국정보통신학회논문지
2020 .02
Magnetized inductively coupled plasma etching of GaN in Cl₂/BCl₃plasmas
한국표면공학회 학술발표회 초록집
1999 .10
Optimized Process Analysis of SiO₂ etch using CFD Simulation
대한전자공학회 학술대회
2017 .01
Dry Etching of Au Films Using CF4 and O2 Plasma
대한전자공학회 학술대회
1998 .01
N-polar면의 선택적 에칭 방법을 통한 Free-standing GaN 기판의Bowing 제어
전기전자재료학회논문지
2016 .01
GaN계 질화합물 반도체의 습식식각 연구
대한전자공학회 학술대회
1998 .06
나노 반도체 소자를 위한 펄스 플라즈마 식각 기술
한국표면공학회지
2015 .12
Plasma etching behavior of RE-Si-Al-O glass (RE: Y, La, Gd)
한국재료학회 학술발표대회
2010 .01
GaN계 질화합물 반도체의 습식식각 연구 ( Studies on Chemical Wet Etching of GaN )
대한전자공학회 학술대회
1998 .07
유도 결합형 Cl₂계 플라즈마를 이용한 GaN 식각 특성에 관한 연구
한국표면공학회지
1999 .04
Dry Etching of Cu With Cl2 Plasma and PEt3
대한전자공학회 학술대회
1996 .01
평판 유도 결합형 CH₄/H₂/Ar 플라즈마를 이용한 GaN 건식 식각에서 공정 변수가 저항성 접촉 형성에 미치는 영향
전기학회논문지 C
2000 .08
Surface Analysis of Fluorine-Plasma Etched Y-Si-Al-O-N Oxynitride Glasses
한국재료학회 학술발표대회
2009 .01
Dry Etch 기술 동향 및 전망
전자공학회지
2001 .08
Inductively Coupled chlorine-Based Plasma Etching of the GaN for Optoelectronic Device Application
OPTOELECTRONICS & COMMUNICATIONS CONFERENCE
1997 .01
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