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In this study, we investigated the ion energy distributions in a chlorine based inductively coupled plasma by quadrupole mass spectrometer with an electrostatic ion energy analyzer. Ion energy distributions are presented for various plasma parameters such as BCl₃/Ar gas mixing ratio, RF power, and process pressure. As the BCl₃/Ar gas mixing ratio and process pressure decreases, and RF power increases, the saddle-shaped structures is enhanced. The reason is that there are ionized energy difference between BCl₃ and Ar, change of plasma potential, alteration of mean free path. and variety of ion collision in the sheath.
목차
Abstract
1. 서론
2. 실험 방법
3. 결과 및 고찰
3. 결론
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참고문헌 (18)
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[학술지(정기간행물)] - I.H. Hutchinson / 2002. / Principles of Plasma Diagnostics : 1 ~ 10
[학술지(정기간행물)] - F. Gaboriau / 2002. / Langmuir probe measurements in an inductively coupled plasma：Electron energy distribution functions in polymerizing fluorocarbon gases used for selective etching of SiO2 20 : 919 ~ 927
[학술지(정기간행물)] - P.H. Dawson / 1995. / Quadrupole Mass Spectrometry and Its Applications : 1 ~ 8
[학술지(정기간행물)] - I.P. Herman / 1996. / Optical Dagnostics for Thin Film Processing : 1 ~ 56
[학술지(정기간행물)] - 김정훈 / 2001. / 레이저 유기 형광법을 이용한 플라즈마내의 밀도 및 전계 측정에 관한 연구 : 1 ~ 3
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[학술지(정기간행물)] - P.H. Dawson / 1995. / Quadrupole Mass Spectrometry and Its Applications : 1 ~ 8
[학술지(정기간행물)] - I.P. Herman / 1996. / Optical Dagnostics for Thin Film Processing : 1 ~ 56
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