지원사업
학술연구/단체지원/교육 등 연구자 활동을 지속하도록 DBpia가 지원하고 있어요.
커뮤니티
연구자들이 자신의 연구와 전문성을 널리 알리고, 새로운 협력의 기회를 만들 수 있는 네트워킹 공간이에요.
이용수
등록된 정보가 없습니다.
논문 유사도에 따라 DBpia 가 추천하는 논문입니다. 함께 보면 좋을 연관 논문을 확인해보세요!
BCl₃/Ar 유도 결합 플라즈마를 이용한 ZnO 박막의 식각 특성
전기학회논문지
2007 .03
유도 결합 플라즈마를 이용한 TiN 박막의 식각 특성
한국표면공학회지
2008 .06
Dry Etching Characteristics of TiN Thin Films in BCl_(3-) Based Plasma
Transactions on Electrical and Electronic Materials
2011 .01
Dry Etching of Al2O3 Thin Films in O2/BCl3/Ar Inductively Coupled Plasma
Transactions on Electrical and Electronic Materials
2010 .01
BCl₃/Ar 플라즈마에 Cl₂ 가스 첨가에 따른 TiN 박막의 식각 특성
전기전자재료학회논문지
2008 .01
The Dry Etching Properties on TiN Thin Film Using an N_2/BCl_3/Ar Inductively Coupled Plasma
Transactions on Electrical and Electronic Materials
2011 .01
BCl3/He 유도결합 플라즈마를 이용한 TiN 박막의 식각 특성
전기전자재료학회논문지
2012 .01
BCl₃/Ar 유도 결합 플라즈마 시스템에서 이온 에너지 분포에 따른 HfO₂ 박막의 식각
전기학회논문지
2007 .02
Infinitely high etch selectivity during CH₄/H₂/Ar inductively coupled plasma (ICP) etching of indium tin oxide (ITO) with photoresist mask
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2006 .10
BCl₃/Ar 식각 플라즈마에서의 이온 에너지 분포
대한전기학회 학술대회 논문집
2005 .11
Dry Etching of ITO Thin Films by the Addition of Gases in Cl2/BCl3 Inductivity Coupled Plasma
Transactions on Electrical and Electronic Materials
2012 .01
유도결합형 BCl3/Ar 플라즈마를 이용한 Al2O3 박막의 식각 특성
전기전자재료학회논문지
2011 .01
BCl₃/Ar 유도 결합 플라즈마 시스템에서 이온 에너지 분포에 따른 HfO₂ 박막 식각
대한전기학회 학술대회 논문집
2006 .10
고밀도 플라즈마를 이용한 SnO2 박막의 건식 식각 특성
전기전자재료학회논문지
2013 .01
유도결합형 플라즈마를 이용한 ITO 식각 특성
한국표면공학회 학술발표회 초록집
1999 .05
Model-Based Analysis of the ZrO2 Etching Mechanism in Inductively Coupled BCl3/Ar and BCl3/CHF3/Ar Plasmas
[ETRI] ETRI Journal
2008 .06
He/BCl₃/Cl₂유도결합 플라즈마를 이용한 TiN 박막의 식각 특성
전기전자재료학회논문지
2011 .01
Metal 게이트 전극을 위한 TiN 박막의 건식 식각 특성
한국표면공학회지
2009 .08
유도 결합 플라즈마를 이용한 Y₂O₃ 박막의 식각 특성 연구 ( A Study on Etch Characteristics of Y₂O₃ Thin Films in Inductively Coupled Plasma )
전자공학회논문지-SD
2001 .09
Cl2/BCl3/Ar 플라즈마에서 반응성 이온들에 의해 식각된 ZnO 박막 표면 연구
전기전자재료학회논문지
2010 .01
0