Dry Etching of BST using Inductively Coupled Plasma

Gwan-Ha Kim ,  김경태 ,  김동표 외 1명

Transactions on Electrical and Electronic Materials

2005 .01

ICP를 이용한 Ar/Cl₂/BCl₃ 플라즈마에서 PZT 식각 특성

안태현 ,  김경태 ,  이영희 외 3명

대한전기학회 학술대회 논문집

1999 .11

기판 온도에 따른 Cl₂/BCl₃/Ar 플라즈마에서 ZrO₂ 박막의 건식 식각

양설 ,  하태경 ,  위재형 외 2명

한국표면공학회지

2009 .12

BCl₃/Ar 식각 플라즈마에서의 이온 에너지 분포

김관하 ,  김창일

대한전기학회 학술대회 논문집

2005 .11

Dry etching of BST thin films using inductively coupled plasma

김관하 ,  김경태 ,  김창일 외 3명

대한전기학회 학술대회 논문집

2004 .11

He/BCl₃/Cl₂유도결합 플라즈마를 이용한 TiN 박막의 식각 특성

우종창 ,  김창일 ,  주영희 외 1명

전기전자재료학회논문지

2011 .01

BCl₃/Cl₂/Ar 고밀도 플라즈마에서 (Ba, Sr)TiO₃ 박막의 식각 특성에 관한 연구

김승범 ,  김창일

대한전기학회 학술대회 논문집

1999 .11

Cl₂/BCl₃/Ar 플라즈마에 의해 식각된 ZnO 박막 표면의 연구

우종창 ,  하태경 ,  위재형 외 4명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2009 .05

${Cl}_{2}/{BCl}_{3}$ 유도 결함형 플라즈마를 이용한 GaN 식각 특성

이용혁 ,  김현수 ,  권용성 외 5명

한국재료학회 학술발표대회

1997 .01

유도결합형 BCl3/Ar 플라즈마를 이용한 Al2O3 박막의 식각 특성

김용근 ,  권광호

전기전자재료학회논문지

2011 .01

BCl₃/Ar 플라즈마에 Cl₂ 가스 첨가에 따른 TiN 박막의 식각 특성

엄두승 ,  우종창 ,  김동표 외 1명

전기전자재료학회논문지

2008 .01

BCl₃/Ar 유도 결합 플라즈마 시스템에서 이온 에너지 분포에 따른 HfO₂ 박막의 식각

金瓘河 ,  金徑兌 ,  金宗奎 외 3명

전기학회논문지

2007 .02

유도결합형 $Cl_2/BCl_3/Ar$ 플라즈마를 이용한 sapphire wafer의 건식 식각

성연준 ,  이용혁 ,  김현수 외 4명

한국재료학회 학술발표대회

1999 .01

Cl2/BCl3/Ar 플라즈마에서 반응성 이온들에 의해 식각된 ZnO 박막 표면 연구

우종창 ,  김창일

전기전자재료학회논문지

2010 .01

Cl2/Ar 유도 결합 플라즈마에 의한 gold 박막의 식각특성

장윤성 ,  김동표 ,  김창일 외 2명

전기전자재료학회논문지

2002 .01

BCl₃/Ar 유도 결합 플라즈마 시스템에서 이온 에너지 분포에 따른 HfO₂ 박막 식각

김관하 ,  김경태 ,  김종규 외 3명

대한전기학회 학술대회 논문집

2006 .10

BCl₃/Ar 유도 결합 플라즈마를 이용한 ZnO 박막의 식각 특성

禹鍾昌 ,  金瓘河 ,  金徑兌 외 3명

전기학회논문지

2007 .03

Cl2 / Ar 가스 플라즈마에 O2 첨가에 따른 Pt 식각 특성 연구 ( The Study on the Etching Characteristics of Pt Thin Film by O2 Addition to Cl2 / Ar Gas Plasma )

김창일 ,  권광호

전자공학회논문지-D

1999 .05

BST 박막의 두께 변화에 따른 전기적 특성에 관한 연구

강성준 ,  정양희

한국정보통신학회논문지

2002 .08

Dry Etching of ITO Thin Films by the Addition of Gases in Cl2/BCl3 Inductivity Coupled Plasma

주영희 ,  김창일 ,  우종창 외 3명

Transactions on Electrical and Electronic Materials

2012 .01