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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술대회자료
- 저자정보
- 발행연도
- 2002.7
- 수록면
- 1,400 - 1,402 (3page)
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목차
Abstract
1. 서론
2. 본론
3. 결론
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XeCl Excimer Laser Annealing Used to Fabricate Poly-Si TFT`s
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전기적 스트레스가 금속 유도 측면 결정화에 의해 제작된 다결정 실리콘 박막 트랜지스터의 누설 전류에 미치는 영향 ( The electrical stress effect on the leakage current of poly-Si thin film transistors fabricated by metal induced lateral crystallization )
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이 논문의 저자 정보
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