Process window for infinitely high etch selectivity of TEOS oxide to PVD a-C in dual-frequency capacitively coupled C₄F₈/CH₂F₂/O₂/Ar plasmas

권봉수 ,  김진성 ,  안정호 외 6명

한국진공학회 학술발표회초록집

2009 .08

Highly selective etching of silicon nitride to CVD a-C in dual-frequency capacitively coupled CH₂F₂/H₂plasmas

김진성 ,  권봉수 ,  안정호 외 6명

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2009 .08

Mechanism of infinite Si₃N₄/ArF PR etch selectivity during CH₂F₂/H₂/Ar dual frequency capacitively coupled plasma etching of Si3N4 layers

박창기 ,  김희대 ,  이춘희 외 1명

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2006 .08

Role of N₂ flow rate on etch characteristics and variation of line edge roughness during etching of silicon nitride with extreme ultra-violet resist pattern in dual-frequency CH₂F₂/N₂/Ar capacitively coupled plasmas

권봉수 ,  정창룡 ,  이내응 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2010 .02

Frequency effect of TEOS oxide layer in dual-frequency capacitively coupled CH2F2/C4F8/O2/Ar plasma

J. H. Lee ,  B. S. Kwon ,  N.-E. Lee

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2011 .02

Role of gas flow rate during etching of hard-mask layer to extreme ultra-violet resist in dual-frequency capacitively coupled plasmas

권봉수 ,  이정훈 ,  이내응

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2010 .08

Capacitively Coupled, RF Excited CH₄ Plasma 에서의 Particle 발생및 그 특성에 관한 연구

연충규 ,  황기웅

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1994 .02

Power Dissipation in a RF Capacitively Coupled Plasma

T. H. T ,  an ,  S. J. You 외 3명

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2013 .02

Etching characteristics of DLC-hard mask using dual frequency superimposed capacitively coupled plasmas (DFS-CCP)

H. T. Kim ,  B. S. Kwon ,  N.-E. Lee 외 2명

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2007 .02

Control of spatial distribution of plasma density by the variable capacitor in a capacitively coupled plasma

Ho-Jun Moon ,  Chin-Wook Chung

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2018 .08

Microtrenching of SiO₂ contact hole etching in C₄F₈/Ar capacitively coupled plasma

S. J. Kim ,  J. J. Lee ,  H. J. Yeom 외 2명

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2017 .08

Characteristics of SiO₂ Etching in a C4F8/Ar/O₂ pulse modulation capacitively coupled plasma

조철희 ,  김시준 ,  이장재 외 4명

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2018 .02

Effect of high - frequency variation on ArF PR deformation and silicon nitride etching by dual frequency superimposed (DFS rf capacitive coupled plasma

N. E. Lee ,  D. H. Kim

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2004 .08

Etching Characteristics of Au Film using Capacitively Coupled CF4/Ar Plasma

Kim ,  Gwang-Beom ,  Hong 외 1명

동굴

2007 .01

Selective etching of SiO₂ using embedded RF pulsing in a dual-frequency capacitively coupled plasma system

염원균 ,  전민환 ,  김경남 외 1명

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2015 .08

2D GPU-PIC을 이용한 Capacitively Coupled Plasma 장비 내에서 발생하는 Micro-arc 현상 연구

김창호 ,  허민영 ,  김진석 외 1명

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2018 .02

대면적 Capacitively Coupled Plasma에서 Multi power feeding에 따른 Plasma uniformity 변화

유광호 ,  나병근 ,  유대호 외 2명

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2010 .02

Comparison of etching characteristics of ArF and EUV photoresists in dual-frequency superimposed capacitively coupled plasmas (DFS-CCP)

B. S. Kwon ,  H. W. Kim ,  H. J. Lee 외 3명

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2008 .02

Anisotropic etching of polysilicon in a Cl₂/ CH₃Br / O₂ Plasma

Whi Kun Yi

Journal of Korean Vacuum Science & Technology

1999 .04

Frequency dependence of electron energy distribution function and plasma parameters in capacitively coupled argon discharge

안승규 ,  유신재 ,  장홍영

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2005 .08