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이용수
Abstract
Ⅰ. 서론
Ⅱ. 웨이퍼 상의 온도분포 추정
Ⅲ. 실험 및 결과고찰
Ⅳ. 결론
참고문헌
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특정연구 결과 발표회 논문집
1989 .01
급속 열처리 시스템에서 웨이퍼의 온도 분포 예측 ( Temperature Simulation of Wafer in Rapid Thermal Processing System )
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1989 .01
고속 열처리 공정에서 웨이퍼 온도의 반복 학습 제어
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1997 .10
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대한전자공학회 학술대회
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RTP 공정의 온도균일성에 관한 연구
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1994 .07
반도체 웨이퍼의 온도 측정에 관한 연구
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2015 .06
알루미늄 열처리공정을 위한 고속 열처리장치의 설계 제작 및 성능평가
전기학회논문지
1991 .10
Temperature Measurement of Silicon Wafers Using Phase Estimation of Acoustic Wave
전기학회논문지 C
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웨이퍼 레벨 3D 패키징을 위한 초박막 Si 웨이퍼 공정기술
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신경망 기반의 반복학습제어를 이용한 고속 열처리 공정기의 온도 제어
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RTA 시스템에서의 온도제어와 웨이퍼상의 온도분포 Simulation ( Temperature Control and Wafer Temperature Distribution Simulation in RTA System )
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