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논문 기본 정보

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학술저널
저자정보
신병철 (부산대학교) 이창석 (부산대학교) 정해도 (부산대학교)
저널정보
Korean Society for Precision Engineering Journal of the Korean Society for Precision Engineering Journal of the Korean Society for Precision Engineering Vol.32 No.1
발행연도
2015.1
수록면
69 - 74 (6page)

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Cadmium telluride (CdTe) is being developed for thin film of the X-Ray detector recently. But a rough surface of the CdTe should be improved for resolution and signal speed. This paper shows the study on the improvement of surface roughness and removal rate by applying Chemical Mechanical Polishing. The conventional potassium hydroxide (KOH) based colloidal silica slurry could not realize a mirror surface without physical defects, resulting in low material removal rate and many scratches on surface. In order to enhance chemical reaction such as form oxidized layer on the surface of cadmium telluride, we used hydrogen peroxide (H₂O₂) as an oxidizer. Consequently, in case of 3 wt% concentration of hydrogen peroxide, the highest MRR (938 nm/min) and the lowest surface roughness (R<SUB>p-v</SUB> = 10.69 nm, Ra<SUB></SUB> = 0.8 nm) could be obtained. EDS was also used to confirm the generated oxide of cadmium telluride surface.
#Cadmium telluride (카드뮴 텔룰라이드) #Chemical mechanical polishing (화학적 기계적 연마) #Hydrogen peroxide (과산화수소) #Material removal rate (재료제거율) #Surface roughness (표면 거칠기)

목차

1. 서론
2. 산화제 첨가에 따른 표면 분석
3. 실험 조건 및 결과
4. 결론
REFERENCES

참고문헌 (10)

참고문헌 신청
Dendy, P. P / 1999 / Physics for Diagnostic Radiology / Taylor & Francis :192~216 google schola Shah, K. S. / 1998 / X-ray Imaging with Semiconductor Films / Proc. of SPIE's International Symposium on Optical Science, Engineering, and Instrumentation, International Society for Optics and Photonics :102~113 google schola Kasap, S. O / 2002 / Direct-conversion flat-panel x-ray image detectors / IEE Proceedings-Circuits, Devices and Systems 149(2):85~96 google schola Ali, I. / 1994 / Chemical-Mechanical Polishing of Interlayer Dielectric-A Review / Solid State Technology 37(10) google schola Kim, H. J. / 2003 / A Study on the Interfacial Characteristics and Its Effect on Material Removal in CMP google schola

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