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반도체 공정에 적합한 실리콘 이방성 식각에 관한 연구
대한전자공학회 학술대회
1996 .11
수용성 암모니아계를 이용한 실리콘 이방성 식각 ( Anisotropic Etching of Silicon with Aqueous Ammonia )
대한전자공학회 학술대회
1996 .01
단결정 실리콘의 이방성 식각특성 ( Anisotropic Etching Property of Silicon-Crystal Silicon )
대한전자공학회 학술대회
1997 .07
단결정 실리콘의 이방성 식각특성
대한전자공학회 학술대회
1997 .06
높은 종횡비를 갖는 구조물의 제작을 위한 ( 110 ) Silicon 이방성 습식 식각에 관한 연구 ( Anisotropic Bulk Etching of ( 110 ) silicon for Fabrication of Micro Structure with High Aspect Ratios )
대한전자공학회 학술대회
1997 .01
실리콘 마이크로머시닝을 위한 자기 정렬 특성을 갖는 새로운 실리콘 식각방법과 식각특성분석
전기학회논문지
1996 .10
반도체 식각 공정모니터링 시스템 개발
한국통신학회 학술대회논문집
2012 .11
( 110 ) 실리콘의 비등방성 부식에 대한 고찰 ( A Study on the Anisotropic Etching of ( 110 ) Silicon )
대한전자공학회 학술대회
1986 .01
실리콘 마이크로 머시닝을 위한 2단계 전기화학적 실리콘 식각 방법 ( Two-Step Electrochemical Silicon Etching Method for Silicon Micromachining )
대한전자공학회 학술대회
1996 .07
KOH 이방성 실리콘 식각용액 중에서 UBM의 보호 방법
한국재료학회 학술발표대회
1996 .01
Anisotropic Etching Property on Porous Silicon Formation
대한전자공학회 학술대회
1994 .01
플라즈마 식각 공정을 위한 3차원 식각 시뮬레이터 개발 ( Development of Three-Dimensional Etching Simulator for a Plasma Etching Process )
대한전자공학회 학술대회
1997 .11
플라즈마 식각 공정을 위한 3차원 식각 시뮬레이터 개발
대한전자공학회 학술대회
1997 .11
플라즈마 식각방법에 의한 단결정 실리콘의 Two-Step 식각특성 ( Two-Step Etching Characteristics of Single-Si by the Plasma Etching Technique )
전자공학회논문지
1987 .01
플라즈마 식각 방법에 의한 단결성 실리콘의 Two-Step 식각 특성 ( Two-Step Etching Characteristics of Single-si by the Plasma Etching Technique )
대한전자공학회 학술대회
1985 .01
Cl/HBr/O 고밀도 플라즈마에서 비정질 실리콘 게이트 식각공정 특성
화학공학
2009 .01
MEMS기반 에너지 하베스터 제작을 위한 실리콘 KOH 식각 모형화
전기전자재료학회논문지
2012 .01
TMAH/AP 용액의 실리콘 이방성 식각특성 및 다이아프램 제작에 대한 연구
대한전자공학회 학술대회
2003 .07
반도체 제조용 식각기술
발명특허
2005 .01
인공 신경망을 이용한 반도체 식각 공정 제어에 관한 연구
한국정밀공학회 학술발표대회 논문집
1998 .11
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