지원사업
학술연구/단체지원/교육 등 연구자 활동을 지속하도록 DBpia가 지원하고 있어요.
커뮤니티
연구자들이 자신의 연구와 전문성을 널리 알리고, 새로운 협력의 기회를 만들 수 있는 네트워킹 공간이에요.
이용수
1996
1995
ABSTRACT
I. 서론
II. 보조패턴형 마스크 구조
III. 실험 및 결과
IV. 결론
참고문헌
논문 유사도에 따라 DBpia 가 추천하는 논문입니다. 함께 보면 좋을 연관 논문을 확인해보세요!
미해상회절 마스크 광리소그레피를 이용한 T-형 패턴 게이트 형성기술 ( T-shaped Gate Metal Formation by using Optical Lithography Technique with Dummy Diffraction Mask )
대한전자공학회 학술대회
1995 .11
위상변환 마스크 리소그래피에 의한 0.15 ㎛ T-형 게이트 형성방법
대한전자공학회 학술대회
1996 .11
T-형 게이트 패턴 형성을 위한 포토마스크 구조 및 리소그래피 공정
대한전자공학회 학술대회
1995 .01
위상변환 마스크 리소그래피에 의한 0.15μm T-형 게이트 형성방법 ( The Formantion of 0.15μm T-Shaped GAte By Phase Shift Mask Using A New Optical Lithograpic Technique )
대한전자공학회 학술대회
1996 .11
상변화 마스크를 이용한 나노 리소그래피에 관한 연구
한국소성가공학회 학술대회 논문집
2018 .05
대면적 나노구조 패턴 제작을 위한 레이저 간섭 리소그래피 기술을 활용한 가간섭성 회절 기술에 관한 연구
한국생산제조학회 학술발표대회 논문집
2019 .11
롤타입 마스크를 이용한 연속 포토리소그래피 기술과 그 응용
대한기계학회 논문집 B권
2012 .10
157nm 광리소그래피 위상변위 마스크용 Si-O-N-F 박막의 특성연구
한국재료학회 학술발표대회
2002 .01
미세 패턴 형성을 위한 위상 반전 마스크 연구 ( Alternating Phase Shift Mask for Sub-0.25 mm Lithography )
대한전자공학회 워크샵
1996 .01
광리소그래피 위상변위 마스크를 위한 Si-O-N-F 박막의 모사연구 및 특성분석
한국재료학회 학술발표대회
2001 .01
광리소그래피에서 최적 모양의 패턴 구현을 위한 포토마스크 역설계 ( Reverse Design of Photomask for Optimum Fidelity in Optical Lithography )
전자공학회논문지-D
1997 .12
광리소그래피에서 최적 모양의 패턴 구현을 위한 포토마스크 역설계 ( Reverse Design of Photomask for Optimum Fidelity in Optical Lithography )
대한전자공학회 학술대회
1996 .11
광리소그래피에서 최적 모양의 패턴 구현을 위한 포토마스크 역설계
대한전자공학회 학술대회
1996 .11
광굴절 결정의 회절효율 특성을 이용한 광 논리 게이트 ( Optical Logic Gate Using Diffraction Efficiency Characteristics of Photorefractive Crystal )
한국통신학회 광전자공학 학술회의
1998 .01
광굴절 결정의 회절효율 특성을 이용한 광 논리 게이트 ( Optical Logic Gate Using Diffraction Efficiency Characteristics of Photorefractive Crystal )
대한전자공학회 학술대회
1998 .01
Metal-hydrogel composite microcantilever humidity sensors fabricated by dynamic mask lithography
대한기계학회 춘추학술대회
2017 .05
광섬유 브래그 격자용 위상 마스크에 의한 회절 및 간섭 패턴 해석 ( Analysis of Diffraction and Interference Pattern from Phase Mask for Fiber Bragg Grating )
한국통신학회 광전자공학 학술회의
1998 .01
광섬유 브래그 격자용 위상 마스크에 의한 회절 및 간섭 패턴 해석 ( Analysis of Diffraction and Interference Pattern from Phase Mask for Fiber Bragg Grating )
대한전자공학회 학술대회
1998 .01
New Developments in 1 : 1 Optical Lithography
대한전자공학회 워크샵
1991 .01
소프트 리소그래피 기술 동향
Journal of the Korean Society for Precision Engineering
2003 .04
0