Etching of Ta₂O₅ thin films by inductively coupled plasma

Gwan-Ha Kim ,  KyuSung Heo

한국분석과학회 학술대회

2024 .11

C₃F₆O 가스를 이용한 SiO₂에 대한 식각 특성 분석

김선웅 ,  양경채 ,  이호석 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2017 .08

Characteristics of SiO₂ Etching in a C4F8/Ar/O₂ pulse modulation capacitively coupled plasma

조철희 ,  김시준 ,  이장재 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2018 .02

Applications of fluid based plasma simulation : dry etch

주정훈

한국진공학회 학술발표회초록집

2018 .02

MoS2 layer etching using CF4 plasma and H2S plasma treatment

양경채 ,  박성우 ,  김경남 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .02

Nano-Indentation 분석 기법을 활용한 플라즈마 식각 후 박막 표면의 물성 변화를 기반으로 정량적인 damage 제시 연구

김수인 ,  이재훈 ,  김홍기 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2015 .08

Microtrenching of SiO₂ contact hole etching in C₄F₈/Ar capacitively coupled plasma

S. J. Kim ,  J. J. Lee ,  H. J. Yeom 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2017 .08

Ar/C_xF_2xO(X=3,6) 혼합가스를 이용한 친환경 SiO₂ 식각 연구

성익찬 ,  탁현우 ,  성다인 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2019 .08

Dry etching of Al₂O₃ thin films in inductively coupled plasma system

Seok SON ,  Young Hee JOO ,  Chang Il KIM

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .08

Silicon oxide etching studies in inductively coupled fluorocarbon plasmas

Won-Seok Chang ,  Deuk-Chul Kwon ,  Mi-Young Song 외 7명

한국진공학회 학술발표회초록집

2017 .02

Plasma Etching of Parylene and SU-8 Polymer in Capacitively Coupled O₂ Plasma

Jewon Lee ,  Sanghyeok Pa ,  k 외 7명

한국진공학회 학술발표회초록집

2019 .08

다양한 etch gas를 이용한 자성 박막의 식각특성 분석

이호석 ,  양경채 ,  박성우 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2017 .02

Effects of pulsed inductively coupled Cl₂/Ar plasma for the etching of Si nanostructure

신예지 ,  김교운 ,  김희주 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2020 .02

Investigation of surface reaction mechanisms on etch of AZO thin films in high density plasma

Young-Hee JOO ,  Chang-Il KIM

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .08

The optimize of chamber recovering conditions in plasma etching processes

Young-Hee JOO ,  Chang-Il KIM

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .08

Characteristics of SiO₂ Etching by Capacitively Coupled Plasma with Different Fluorocarbon Liquids (C₇F₁₄, C₇F₈) and Fluorocarbon Gas (C₄F₈)

Seung-Wan Yoo ,  Chulhee Cho ,  Kyungtae Kim 외 2명

Applied Science and Convergence Technology

2021 .07

Brief Review of Atomic Layer Etching Based on Radiofrequency-Biased Ar/C₄F₆-Mixture-Based Inductively Coupled Plasma Characteristics

Min Young Yoon ,  Hee Jung Yeom ,  Jong-Ryul Jeong 외 2명

Applied Science and Convergence Technology

2023 .03

Study on the Etching properties by using Inductively Coupled CF₄/C₄F8/O₂ & CF₄/CBr₂F₂/O₂ plasmas

Yunho Nam ,  Junmyung Lee ,  Jongchan Lee 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2019 .08

Characterization of SiO₂ Over Poly-Si Mask Etching in Ar/C₄F₈ Capacitively Coupled Plasma

In Ho Seong ,  Jang Jae Lee ,  Chul Hee Cho 외 3명

Applied Science and Convergence Technology

2021 .11

Sensitivity Enhancement of SiO₂ Plasma Etching Endpoint Detection with K-means Cluster Analysis Technique

이호녕 ,  장해규 ,  이학승 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2015 .02