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논문 기본 정보

자료유형
학술대회자료
저자정보
안영기 (SEMES 연구소 나노센터) 김현종 (SEMES 연구소 나노센터) 성보람찬 (SEMES 연구소 나노센터) 구교욱 (SEMES 연구소 나노센터) 조중근 (SEMES 연구소 나노센터)
저널정보
한국반도체디스플레이기술학회 한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회 한국반도체및디스플레이장비학회 2006년도 춘계학술대회
발행연도
2006.1
수록면
182 - 189 (8page)

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이 논문의 연구 히스토리 (2)

2006

$SiO_2$막의 습식식각 방법별 균일도 비교
안영기 ,  김현종 ,  성보람찬 외 2명 반도체및디스플레이장비학회지 2006.01 학술저널
$SiO_2$ 막의 습식식각 방법별 균일도 비교
안영기 ,  김현종 ,  성보람찬 외 2명 한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회 2006.01 학술대회자료

초록· 키워드

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현재 반도체 습식식각 공정에 사용되고 있는 방법은 batch식과 매엽식이 있다. batch식 식각방법은 매엽식보다 throughput이 많은 반면 식각균일도는 떨어진다. 매엽식은 웨이퍼를 회전시키면서 약액을 분사할 때 Boom swing을 하여 균일하게 식각할 수 있다. 본 연구에서는 Boom swing이 없는 구조의 매엽식 장비에서 약액이 상온과 고온일 때 $SiO_2$막을 식각하여 비교하였다. 각각의 조건에서 식각량의 분포와 균일도의 변화에 대해서 알아보았으며, 실험평가시 분사된 약액의 온도분포를 이론적으로 계산하여 실제 실험결과와 비교하여 보았다. 식각균일도는 batch식 보다 매엽식 스핀방식이 균일하였으며, 약액분사 방법은 boom swing을 하는 것이 더 균일하였다.

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