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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술대회자료
- 저자정보
- 발행연도
- 2004.1
- 수록면
- 1,072 - 1,075 (4page)
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Ion shower doping using a source gas of $PH_3/H_2$ was conducted on excimer-laser-annealed (ELA) Poly-Si. As-implanted damage is accumulated more and more with the increase of an acceleration voltage and a doping time. In this study we found that dopant-activation is relatively a rapid kinetic-process while damage-recovery is not.
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