Dry Etching Process for the Fabrication of Transparent InGaZnO TFTs

Yoon, S.M.; Cheong, W.S.; Hwang, C.S.; Kopark, S.H.; Cho, D.H.; Shin, J.H.; Ryu, M.; Byun, C.W.; Yang, S.; Lee, J.I.; Chung, S.M.; Chu, H.Y.; Cho, K.I.

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저자정보: Yoon, S.M. (ETRI) Cheong, W.S. (ETRI) Hwang, C.S. (ETRI) Kopark, S.H. (ETRI) Cho, D.H. (ETRI) Shin, J.H. (ETRI) Ryu, M. (ETRI) Byun, C.W. (ETRI) Yang, S. (ETRI) Lee, J.I. (ETRI) Chung, S.M. (ETRI) Chu, H.Y. (ETRI) Cho, K.I. (ETRI)

저널정보: 한국정보디스플레이학회 한국정보디스플레이학회 International Meeting 한국정보디스플레이학회 2008년도 International Meeting on Information Display

발행연도: 2008.1

수록면: 222 - 225 (4page)

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2008

Dry Etching Process for the Fabrication of Transparent InGaZnO TFTs

Yoon , S.M. , Cheong 외 24명 한국정보디스플레이학회 International Meeting 2008.01 학술대회자료

2007

Dry Etching Behaviors of ZnO and $Al_2O_3$ Films in the Fabrication of Transparent Oxide TFT for AMOLED Display Application

Yoon , S.M. , Hwang 외 8명 한국정보디스플레이학회 International Meeting 2007.01 학술대회자료

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We proposed the dry etching process recipe for the fabrication of In-Ga-Zn-O (IGZO)-based oxide TFTs, in which the etching behaviors of IGZO films were systematically investigated when the etching gas mixtures and their mixing ratios were varied. Good device characteristics of the fabricated TFT were successfully confirmed.

#IGZO #ITO #transparent #oxide TFT #dry etching

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