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저자정보
Kwon, O-Dae (School of Electronics, Telecommunications and Computer Engineering, Korea Aerospace University) Kwon, Han-Bum (School of Electronics, Telecommunications and Computer Engineering, Korea Aerospace University) Yoo, Su-Jin (School of Electronics, Telecommunications and Computer Engineering, Korea Aerospace University) Kim, Jong-Keun (School of Electronics, Telecommunications and Computer Engineering, Korea Aerospace University) Jeon, Jae-Hong (School of Electronics, Telecommunications and Computer Engineering, Korea Aerospace University) Lee, Kang-Woong (School of Electronics, Telecommunications and Computer Engineering, Korea Aerospace University) Choe, Hee-Hwan (School of Electronics, Telecommunications and Computer Engineering, Korea Aerospace University) Seo, Jong-Hyun (Department of Materials, Korea Aerospace University) Seong, Dae-Jin (Center for Vacuum technology, Korea Research Institute of Standards and Science) Kim, Jung-Hyun (Center for Vacuum technology, Korea Research Institute of Standards and Science) Hyeon, Yong (Center for Vacuum technology, Korea Research Institute of Standards and Science)
저널정보
한국정보디스플레이학회 한국정보디스플레이학회 International Meeting 한국정보디스플레이학회 2007년도 7th International Meeting on Information Display 제7권1호
발행연도
2007.1
수록면
922 - 925 (4page)

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In the usual dry etching process for the TFT-LCD fabrication, it is hard to monitor the basic plasma parameters such as density and temperature. However, the basic parameters are easily monitored during the dry etching process. We have simultaneously measured the electric characteristics and basic plasma parameters of the dry etching chamber during the process, analyzed them to interpret plasma parameters. For the Ar plasma discharge case, we could obtain the density and temperature from the electric characteristics using a simple simple sheath model.

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