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Choi, Shin-Il (LCD Technology Center, Samsung Electronics Co.. LTD.) Kim, Sang-Gab (LCD Technology Center, Samsung Electronics Co.. LTD.) Choi, Seung-Ha (LCD Technology Center, Samsung Electronics Co.. LTD.) Kim, Shi-Yul (LCD Technology Center, Samsung Electronics Co.. LTD.) Kim, Sang-Soo (LCD Technology Center, Samsung Electronics Co.. LTD.) Lee, Seung-Hun (Dept. of Nuclear Engineering, Seoul National University) Kwon, Ho-Cheol (Dept. of Nuclear Engineering, Seoul National University) Kim, Gon-Ho (Dept. of Nuclear Engineering, Seoul National University)
저널정보
한국정보디스플레이학회 한국정보디스플레이학회 International Meeting 한국정보디스플레이학회 2008년도 International Meeting on Information Display
발행연도
2008.1
수록면
1,272 - 1,275 (4page)

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We present the development of dry etch process for the liquid crystal display (LCD) fabrication using a dielectric barrier discharge (DBD) system at atmospheric pressure. In this experimental work, the dry etch characteristics and the electrical properties of thin film transistor are evaluated by using the scanning electron microscopy and electric probe, and TFT-LCD panel ($300\;mm\;{\times}\;400\;mm$) is manufactured with the application of the amorphous silicon etch step in the 4 mask and 5 mask processes.
#atmospheric dry etch #dielectric barrier discharge #TFT-LCD fabrication

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