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저자정보
Park, Jae-Beom (SKKU Advanced Institute of Nano Technology[SAINT], Sungkyunkwan Univ.) Oh, Jong-Sik (Dept. of Advanced Materials Engineering, Sungkyunkwan Univ.) Yeom, Geun-Young (SKKU Advanced Institute of Nano Technology[SAINT], Sungkyunkwan Univ.)
저널정보
한국정보디스플레이학회 한국정보디스플레이학회 International Meeting 한국정보디스플레이학회 2009년도 9th International Meeting on Information Display
발행연도
2009.1
수록면
1,500 - 1,503 (4page)

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In this paper, we studied about atmospheric pressure remote plasma ashing of photoresist(PR), by using a modified dielectric barrier discharge(DBD). The effect of various gas combinations such as $N_2/O_2$, $N_2/O_2+SF_6$ on the changes PR ashing rate was investigated as a function of power. The maximum PR ashing rate of 1850 nm/min was achieved at $N_2$ (70 slm)/ $O_2$ (200 sccm) + $SF_6$ (3 slm). We found that as the oxygen and fluorine radical peaks were increased, the ashing rate is increased, too.

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