Dielectric Barrier Discharge type 대기압 플라즈마 발생장치를 이용한 SiO₂ 식각에 관한 연구

오종식 ,  박재범 ,  길엘리 외 1명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2009 .05

Study of the Amorphous Silicon Etching Mechanism Using Pin Type Dielectric Barrier Discharge

G. Y. Yeom

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2008 .06

Atmospheric pressure plasma deposition of $SiO_X$ thin films by direct-Type pin-to-plate dielectric barrier discharge for flexible displays

Gil ,  Elly ,  Lee 외 5명

한국정보디스플레이학회 International Meeting

2009 .01

Pin To Plate Dielectric Barrier Discharge 방식의 Remote 대기압 플라즈마를 이용한 비정질 Si 식각

박재범 ,  경세진 ,  염근영

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2006 .10

The Development of Cl-Plasma Etching Procedure for Si and SiO₂

Jong Woo Kim ,  Mi Young Jung ,  Sung Soo Choi 외 1명

한국표면공학회지

2001 .10

DBD 대기압 플라즈마 해석에 대한 기초 연구

신명수 ,  김종호 ,  김성영 외 2명

한국정밀공학회 학술발표대회 논문집

2008 .06

Mechanism of SiO2 etching in fluorocarbon plasmas

조성운 ,  김창구

한국에너지학회 학술발표회

2014 .04

DBD(Dielectric Barrier Discharges)에서 플라즈마 발생 해석

김종봉 ,  신명수 ,  김종호 외 2명

한국생산제조학회 학술발표대회 논문집

2008 .05

DBD(Dielectric Barrier Discharges)에서 진공 플라즈마 발생에 대한 해석적 연구

신명수 ,  차성훈 ,  김종봉 외 3명

Journal of the Korean Society for Precision Engineering

2009 .03

Optimized Process Analysis of SiO₂ etch using CFD Simulation

Han-Bit Kim ,  Tae-Ho shin ,  Byeong-Gwan ji 외 7명

대한전자공학회 학술대회

2017 .01

Plasma Etching for saw damage removal Using RF DBD

Min Guk Ko ,  Jong Guen Yang ,  Heon Ju Lee

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2013 .11

대기압 플라즈마를 이용하여 증착된 SiO₂ 무기 박막의 특성

길엘리 ,  박재범 ,  오종식 외 1명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2010 .05

Negative Ion Formation in SiO2 Etching Using a Pulsed ICP Plasma

Chang Ju Choi ,  O Sung Kwon ,  Yeo Song Seol

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

Plasma etching behavior of RE-Si-Al-O glass (RE: Y, La, Gd)

이정기 ,  황성진 ,  이성민 외 1명

한국재료학회 학술발표대회

2010 .01

Increasing the Hydrophobicity of Photoresist/glass Surface using a N₂/CF₄ Pin to Plate Dielectric Barrier Discharge Treatment at Atmospheric Pressure

SeJin Kyung ,  JongSik Oh ,  JuneHee Lee 외 1명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2008 .06

나노 반도체 소자를 위한 펄스 플라즈마 식각 기술

양경채 ,  박성우 ,  신태호 외 1명

한국표면공학회지

2015 .12

Spatial and Temporal Radical Distribution in Inductively Coupled Plasma for SiO2 Etching

S. Hayashi ,  M. Yamanaka ,  M. Kubota 외 2명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

Si$O_{2}/{Si}_{0.7}{Ge}_{0.3}/SiO_{2}$계에서의 계면응집현상에 의한 양자점 형성에 관한 연구

윤태식 ,  권장연 ,  이동훈 외 2명

한국재료학회 학술발표대회

1997 .01

Remote Plasma Etching of Photoresist Using Pin-To-Plate Dielectric Barrier Discharge

박재범 ,  경세진 ,  염근영

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2007 .04

임피던스 변화를 이용한 선형 대기압 DBD 플라즈마 밀도 측정

신기원 ,  이환희 ,  권희태 외 3명

반도체디스플레이기술학회지

2018 .01