A Research on the Anisotropic Etching of Tungsten-Nitride for X-Ray Mask

H. G. Lee ,  C. Y. Jeong ,  S. Y. Lee 외 6명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

Anisotropic Etching of Tungsten with ICP System

정창영 ,  송기창 ,  전영삼 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1997 .01

ICP 플라즈마를 이용한 W$N_{x}$의 이방성 식각

정창영 ,  송기창 ,  전영삼 외 3명

한국재료학회 학술발표대회

1997 .01

SF6 플라즈마를 이용한 텅스텐 박막의 반응성 이온식각에 관한 실험적 연구 ( Experimental Study of Reactive Ion Etching of Tungsten Films Using SF6 Plasma )

박상규 ,  서성우 ,  이시우

전자공학회논문지-A

1993 .07

저진공 축전결합형 SF, SF/O, SF/CH 플라즈마를 이용한 아크릴의 반응성 건식 식각

박연현 ,  주영우 ,  김재권 외 2명

한국재료학회지

2009 .01

유도 결합형 SF₆플라즈마 특성에 관한 연구

하장호 ,  전용우 ,  최상태 외 5명

한국조명·전기설비학회 학술대회논문집

1999 .11

MECHANISM OF ETCHING OF SILICON NITRIDE IN CF4-O2 PLASMA

V. P ,  emachand ,  an 외 2명

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1989 .01

에칭 프로세스를 위한 SF₆/O₂ 플라즈마 특성에 관한연구

하장호 ,  전용우 ,  신용철 외 4명

대한전기학회 학술대회 논문집

2000 .07

Estimation of tungsten tip by electrochemical etching

Duy-Cuong Le ,  Huyn-Chul Kim

한국생산제조학회 학술발표대회 논문집

2012 .10

TYNGSTEN ETCHBACK PROCESS FOR SUB-HALF MICRON CONTACTS USING HELICON HIGH DENSITY PLASMA

Kwon ,  O.Sung ,  Choi 외 7명

Fabrication and Characterization of Advanced Materials

1995 .01

포스트 플라즈마를 이용한 질화의 질화층 형성에 미치는 전처리의 영향에 대한 연구

문경일 ,  변상모 ,  조용기 외 2명

열처리공학회지

2005 .01

SF6, C₄F8, O₂ 가스 변화에 따른 실리콘 식각율과 식각 형태 개선

권순일 ,  양계준 ,  송우창 외 1명

전기전자재료학회논문지

2008 .01

Dry etching of Polymethyl methacrylate (PMMA) in capacitively coupled $SF_6,\;SF_6/Ar\;and\;SF_6/CH_4$ plasmas

박연현 ,  주영우 ,  김재권 외 5명

한국재료학회 학술발표대회

2007 .01

플라즈마 증착된 Tungsten Nitride barrier layer에 의한 Al spiking 억제효과

이창우 ,  이주천 ,  김용태 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1992 .06

플라즈마 증착된 Tungsten Nitride Barrier Layer에 의한 Al Spiking 억제효과 ( Suppression of Al Spiking by the Plasma Deposited Tungsten Nitride Barrier Layer )

이창우 ,  이주천 ,  김용태 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1992 .07

SF₆/N₂ 혼합기체의 대기압 플라즈마 특성 분석

소순열 ,  이진

전기학회논문지 P

2009 .12

Controllable Etching of 2-Dimentional Hexagonal Boron Nitride by Using Oxygen Capacitively Coupled Plasma

Deshun Qu ,  Won Jong Yoo

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2013 .05

Effects of Feed Gas Chemistry on Sf6 Based Tungsten Etching in a Helicon Etcher

정중택 ,  조윤석 ,  오진성 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1996 .01

Plasma etching characteristics of hexagonal boron nitride for two dimensional electron devices

De-shun Qu ,  Won Jong Yoo

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2013 .11

Effects of N₂addition on chemical etching of silicon nitride layers in F₂/Ar/N₂remote plasma processing

S. M. Pa ,  k ,  H. W. Kim 외 3명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2007 .04