Deposition of Low Stress , High Transmittance SiC as an X-Ray Mask Membrane Using ECR Plasma CVD

이승윤 ,  송기창 ,  전영삼 외 8명

대한전자공학회 학술대회

1998 .01

ECR CVD를 이용한 x-ray lithography membrane용 SiC의 증착

이승윤 ,  송기창 ,  이규한 외 1명

한국재료학회 학술발표대회

1997 .01

ECR CVD를 이용한 SiO2 박막 특성에 관한 연구 ( A Study on The Electrical Characteristics of SiO2 Prepared By ECR CVD )

윤석규 ,  강문상 ,  김재영 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1996 .11

ECR CVD를 이용한 SiO₂ 박막 특성에 관한 연구

윤석규 ,  강문상 ,  김재영 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1996 .11

A Study on the C-V Voltage Shift of SiO2 Films Prepared By ECR CVD

이현 ,  윤석규 ,  강문상 외 4명

대한전자공학회 학술대회

1997 .01

새로운 X 선 마스트 기판재료로서 ECR plasma CVD를 이용한 carbon nitride 재료의 개발

강정호 ,  이승윤 ,  임승택 외 1명

한국재료학회 학술발표대회

1998 .01

DEPOSITION OF A-SIC : H FILMS ON AN UNHEATED SI SUBSTRATE BY LOW FREQUENCY (50㎐) PLASMA Cvd

M. Shimozuma ,  K. Iba ,  agi 외 5명

한국표면공학회지

1996 .12

ECR 플라즈마 CVD 방법을 이용한 수소화된 비정질 실리콘 박막의 증착과 광학적 특성

김용일 ,  이진엽 ,  강문상 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1995 .06

ECR CVD를 이용한 비정질 실리콘 박막의 증착 조건과 광학적 특성 ( The Deposition Condition and Optical Characteristics of A-Si : H Films Deposited By ECR CVD )

강문상 ,  김재영 ,  전법주 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1996 .11

ECR CVD를 이용한 비정질 실리콘 박막의 증착 조건과 광학적 특성

강문상 ,  김재영 ,  전법주 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1996 .11

CVD-SiC 소재의 가공 특성에 관한 연구

박휘근 ,  이원석 ,  강동원 외 2명

한국기계가공학회지

2017 .10

Rapid Thermal Annealing System의 시험 제작 ( Experimental Results of a Prototype Rapid Thermal Annealing System )

조병진 ,  김경태 ,  김충기

대한전자공학회 학술대회

1986 .01

ECR 산소 플라즈마를 이용한 저온 열산화 ( Low Temperature Thermal Oxidation using ECR Oxygen Plasma )

이정열 ,  강석원 ,  이진우 외 2명

전자공학회논문지-A

1995 .03

Compact ECR plasma 장치의 제작 및 특성 연구 ( Study on the Fabrication and Characterization of Compact ECR Plasma System )

윤민희 ,  박원일 ,  남기석 외 1명

전자공학회논문지-A

1994 .04

LPCVD, PECVD, ECR Plasma CVD를 이용한 SiN막질의 비교

이태호 ,  이규한 ,  이승윤 외 2명

한국재료학회 학술발표대회

1996 .01

THERMAL PROPERTIES OF SIC/C FUNCTIONALLY GRADIENT MATERIALS BY CVD

Yootaek Kim ,  Keun Ho Auh

한국표면공학회지

1996 .10

ECR CVD 방법에 의한 Fluorinated Silicon Oxide의 증착특성 연구

장원익 ,  강승열 ,  백종태

한국재료학회 학술발표대회

1996 .01