지원사업
학술연구/단체지원/교육 등 연구자 활동을 지속하도록 DBpia가 지원하고 있어요.
커뮤니티
연구자들이 자신의 연구와 전문성을 널리 알리고, 새로운 협력의 기회를 만들 수 있는 네트워킹 공간이에요.
이용수
등록된 정보가 없습니다.
논문 유사도에 따라 DBpia 가 추천하는 논문입니다. 함께 보면 좋을 연관 논문을 확인해보세요!
Deposition of Low Stress , High Transmittance SiC as an X-Ray Mask Membrane Using ECR Plasma CVD
대한전자공학회 학술대회
1998 .01
Effects of Source Gas for Preparation of Carbon Nitride Using Microwave Plasma CVD
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2008 .06
FE Properties of Carbon Nitride Prepared by Microwave Plasma CVD
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2008 .06
ECR 플라즈마를 이용한 실리콘질화박막 증착
한국표면공학회지
1990 .12
ECR CVD를 이용한 비정질 실리콘 박막의 증착 조건과 광학적 특성 ( The Deposition Condition and Optical Characteristics of A-Si : H Films Deposited By ECR CVD )
대한전자공학회 학술대회
1996 .11
ECR CVD를 이용한 비정질 실리콘 박막의 증착 조건과 광학적 특성
대한전자공학회 학술대회
1996 .11
ECR CVD를 이용한 SiO2 박막 특성에 관한 연구 ( A Study on The Electrical Characteristics of SiO2 Prepared By ECR CVD )
대한전자공학회 학술대회
1996 .11
ECR CVD를 이용한 SiO₂ 박막 특성에 관한 연구
대한전자공학회 학술대회
1996 .11
ECR 플라즈마 CVD 방법을 이용한 수소화된 비정질 실리콘 박막의 증착과 광학적 특성
대한전자공학회 학술대회
1995 .06
Synthesis of Carbon Nitride Films by Dual Microwave Plasma Source CVD
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2013 .11
DEPOSITION OF A-SIC : H FILMS ON AN UNHEATED SI SUBSTRATE BY LOW FREQUENCY (50㎐) PLASMA Cvd
한국표면공학회지
1996 .12
ECR 플라즈마에 의해 형성된 실리콘 질화막의 전기적 특성 ( Electrical Properties of Silicon Nitride Thin Films Formed by ECR Plasma )
전자공학회논문지-A
1992 .10
ECR CVD를 이용한 x-ray lithography membrane용 SiC의 증착
한국재료학회 학술발표대회
1997 .01
Effect of pulse frequency on carbon nitride synthesized using pulsed microwave plasma CVD
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2013 .11
High-Transmittance SiC Membrane Prepared by ECR Plasma CVD in Combination with Rapid Thermal Annealing
International Conference on Electronics, Informations and Communications
1998 .01
Compact ECR plasma 장치의 제작 및 특성 연구 ( Study on the Fabrication and Characterization of Compact ECR Plasma System )
전자공학회논문지-A
1994 .04
LPCVD, PECVD, ECR Plasma CVD를 이용한 SiN막질의 비교
한국재료학회 학술발표대회
1996 .01
A Study on the C-V Voltage Shift of SiO2 Films Prepared By ECR CVD
대한전자공학회 학술대회
1997 .01
SYNTHESIS OF CARBON NITRIDE THIN FILMS BY PLASMA PROCESSING
한국표면공학회지
1996 .10
0