Deposition of Low Stress , High Transmittance SiC as an X-Ray Mask Membrane Using ECR Plasma CVD

이승윤 ,  송기창 ,  전영삼 외 8명

대한전자공학회 학술대회

1998 .01

Effects of Source Gas for Preparation of Carbon Nitride Using Microwave Plasma CVD

Masatoshi Inoue ,  Yukihi ,  o Sakamoto 외 1명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2008 .06

FE Properties of Carbon Nitride Prepared by Microwave Plasma CVD

Shunichi ,  o Komizo ,  Yukihi 외 2명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2008 .06

ECR 플라즈마를 이용한 실리콘질화박막 증착

송선규 ,  장홍영

한국표면공학회지

1990 .12

ECR CVD를 이용한 비정질 실리콘 박막의 증착 조건과 광학적 특성 ( The Deposition Condition and Optical Characteristics of A-Si : H Films Deposited By ECR CVD )

강문상 ,  김재영 ,  전법주 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1996 .11

ECR CVD를 이용한 비정질 실리콘 박막의 증착 조건과 광학적 특성

강문상 ,  김재영 ,  전법주 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1996 .11

ECR CVD를 이용한 SiO2 박막 특성에 관한 연구 ( A Study on The Electrical Characteristics of SiO2 Prepared By ECR CVD )

윤석규 ,  강문상 ,  김재영 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1996 .11

ECR CVD를 이용한 SiO₂ 박막 특성에 관한 연구

윤석규 ,  강문상 ,  김재영 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1996 .11

ECR 플라즈마 CVD 방법을 이용한 수소화된 비정질 실리콘 박막의 증착과 광학적 특성

김용일 ,  이진엽 ,  강문상 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1995 .06

Synthesis of Carbon Nitride Films by Dual Microwave Plasma Source CVD

Osamu Ikai ,  Takayoshi Kiguchi ,  Ma 외 4명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2013 .11

DEPOSITION OF A-SIC : H FILMS ON AN UNHEATED SI SUBSTRATE BY LOW FREQUENCY (50㎐) PLASMA Cvd

M. Shimozuma ,  K. Iba ,  agi 외 5명

한국표면공학회지

1996 .12

ECR 플라즈마에 의해 형성된 실리콘 질화막의 전기적 특성 ( Electrical Properties of Silicon Nitride Thin Films Formed by ECR Plasma )

구본영 ,  전유찬 ,  주승기

전자공학회논문지-A

1992 .10

ECR CVD를 이용한 x-ray lithography membrane용 SiC의 증착

이승윤 ,  송기창 ,  이규한 외 1명

한국재료학회 학술발표대회

1997 .01

Effect of pulse frequency on carbon nitride synthesized using pulsed microwave plasma CVD

Ippei Tanaka ,  Yukihi ,  o Sakamoto

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2013 .11

High-Transmittance SiC Membrane Prepared by ECR Plasma CVD in Combination with Rapid Thermal Annealing

Ki Chang Song ,  Don Hee Lee ,  Young Sam Jeon 외 7명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

Compact ECR plasma 장치의 제작 및 특성 연구 ( Study on the Fabrication and Characterization of Compact ECR Plasma System )

윤민희 ,  박원일 ,  남기석 외 1명

전자공학회논문지-A

1994 .04

LPCVD, PECVD, ECR Plasma CVD를 이용한 SiN막질의 비교

이태호 ,  이규한 ,  이승윤 외 2명

한국재료학회 학술발표대회

1996 .01

A Study on the C-V Voltage Shift of SiO2 Films Prepared By ECR CVD

이현 ,  윤석규 ,  강문상 외 4명

대한전자공학회 학술대회

1997 .01

SYNTHESIS OF CARBON NITRIDE THIN FILMS BY PLASMA PROCESSING

Osamu Takai ,  Yusuke Taki ,  Toshihisa Kitagawa

한국표면공학회지

1996 .10