ECR 플라즈마 CVD 방법을 이용한 수소화된 비정질 실리콘 박막의 증착과 광학적 특성

김용일 ,  이진엽 ,  강문상 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1995 .06

ECR CVD를 이용한 비정질 실리콘 박막의 증착 조건과 광학적 특성 ( The Deposition Condition and Optical Characteristics of A-Si : H Films Deposited By ECR CVD )

강문상 ,  김재영 ,  전법주 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1996 .11

ECR CVD를 이용한 비정질 실리콘 박막의 증착 조건과 광학적 특성

강문상 ,  김재영 ,  전법주 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1996 .11

ECR CVD를 이용한 SiO2 박막 특성에 관한 연구 ( A Study on The Electrical Characteristics of SiO2 Prepared By ECR CVD )

윤석규 ,  강문상 ,  김재영 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1996 .11

ECR CVD를 이용한 SiO₂ 박막 특성에 관한 연구

윤석규 ,  강문상 ,  김재영 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1996 .11

A Study on the C-V Voltage Shift of SiO2 Films Prepared By ECR CVD

이현 ,  윤석규 ,  강문상 외 4명

대한전자공학회 학술대회

1997 .01

ECR CVD를 이용한 x-ray lithography membrane용 SiC의 증착

이승윤 ,  송기창 ,  이규한 외 1명

한국재료학회 학술발표대회

1997 .01

ECR 플라즈마를 이용한 실리콘질화박막 증착

송선규 ,  장홍영

한국표면공학회지

1990 .12

Ultrathin Oxide Film Growth on Silicon ( 100 ) by ECR Plasma in Dry Oxygen

K. Kim ,  M. H. An ,  M. S. Suh 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1996 .01

ECR 플라즈마에 의해 형성된 실리콘 질화막의 전기적 특성 ( Electrical Properties of Silicon Nitride Thin Films Formed by ECR Plasma )

구본영 ,  전유찬 ,  주승기

전자공학회논문지-A

1992 .10

새로운 CVD 방법에 의하여 제작된 실리콘 박막의 특성 연구 ( Characterization of Silicon Thin Films Prepared by New CVD Technique )

김성철 ,  이승규 ,  정창영 외 5명

대한전자공학회 학술대회

1989 .07

CO₂ Laser-induced CVD법에 의한 Silicon 박막 및 p-n접합 Silicon제작

최원국 ,  정광호 ,  김웅

대한전기학회 학술대회 논문집

1989 .11

새로운 X 선 마스트 기판재료로서 ECR plasma CVD를 이용한 carbon nitride 재료의 개발

강정호 ,  이승윤 ,  임승택 외 1명

한국재료학회 학술발표대회

1998 .01

ECRPCVD 방법을 이용한 수소화된 비정질 실리콘 박막의 증착과 광학적 특성에 관한 연구 ( Deposition and Optical Characteristics of the Hydrogenated Amorphous Silicon Films Using ECR Plasma CVD )

김용일 ,  이진엽 ,  강문상 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1995 .07

Blue / Green Photoluminescences From Silicon-Rich Oxide Layer Deposited By ECR-Plasma

M. H. An ,  K. Kim ,  T. S. Kim 외 5명

대한전자공학회 학술대회

1996 .01

ECR 상온증착법에 의한 구리 금속막 코팅

고형덕 ,  변동진 ,  이중기 외 1명

한국재료학회 학술발표대회

2001 .01

최대 효율을 갖는 무선전력전송용 ECR장치 설계

김성완 ,  김창선

대한전기학회 학술대회 논문집

2012 .07

LPCVD, PECVD, ECR Plasma CVD를 이용한 SiN막질의 비교

이태호 ,  이규한 ,  이승윤 외 2명

한국재료학회 학술발표대회

1996 .01

SiHCl 와 O을 이용한 원자층 증착법에 의해 제조된 실리콘 산화막의 특성

이원준 ,  이주현 ,  한창희 외 3명

한국재료학회지

2004 .01