지원사업
학술연구/단체지원/교육 등 연구자 활동을 지속하도록 DBpia가 지원하고 있어요.
커뮤니티
연구자들이 자신의 연구와 전문성을 널리 알리고, 새로운 협력의 기회를 만들 수 있는 네트워킹 공간이에요.
논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술대회자료
- 저자정보
- 발행연도
- 1995.6
- 수록면
- 100 - 100 (1page)
이용수
이 논문의 연구 히스토리 (4)
- 이 논문의 후속연구가 궁금하신가요?
- 연관 학술논문 또는 학술발표를 통해 보다 발전된 연구결과를 확인하실 수 있습니다.
- 이 논문의 연구 히스토리 확인하기
초록· 키워드
오류제보하기
등록된 정보가 없습니다.
목차
등록된 정보가 없습니다.
참고문헌 (0)
참고문헌 신청함께 읽어보면 좋을 논문
논문 유사도에 따라 DBpia 가 추천하는 논문입니다. 함께 보면 좋을 연관 논문을 확인해보세요!
-
자화된 유도결합형 플라즈마 식각공정시 형성된 실리콘표면의 오염 및 손상에 관한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
1996 .06
-
유도 결합 플라즈마를 이용한 6H - SiC 식각 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
1998 .07
-
CHF₃ / C₂F6 반응성이온 건식식각에 의해 형성되는 실리콘 표면의 잔류층 및 손상층에 관한 연구 (Ⅰ)
한국진공학회 학술발표회초록집
1992 .02
-
유도 결합형 플라즈마를 이용한 GaN 식각 특성에 관한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
1997 .02
-
발광 분광 분석법 및 잔류가스 분석기를 이용한 NF₃ 플라즈마 반응성 이온 식각 장치의 실리콘 식각 진단 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .08
-
고밀도 플라즈마 식각 공정시 형성된 실리콘 표면의 오염 및 손상 제거에 관한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
1995 .06
-
NF3 플라즈마 식각 진단 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
-
C₄F8 / H₂ 헬리콘 플라즈마를 이용한 산화막 식각시 형성된 잔류막 손상층이 후속 실리사이드 형성 및 전기적 특성에 미치는 효과
한국진공학회 학술발표회초록집
1998 .02
-
산소, 질소가 첨가된 유도결합형 염소 플라즈마의 실리콘 식각 특성 비교
한국진공학회 학술발표회초록집
1996 .06
-
자화된 유도결합 플라즈마에서의 SF₆/O₂ 특성 및 Silicon Via에 대한 식각 특성
한국진공학회 학술발표회초록집
2012 .02
-
유도결합플라즈마 식각 장비에서 안테나와 웨이퍼간 거리 차에 따른 플라즈마 변화 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2011 .02
-
자화된 유도결합형 플라즈마를 이용한 Al - Nd 박막의 식각특성에 관한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
1999 .07
-
자화 유도 결합 플라즈마를 이용한 Platinum 식각에 관한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
1998 .02
-
CF₄ 유도결합플라즈마를 이용한 식각 장치의 바이어스 전극에서 측정 된 전기적 특성과 식각률 비교
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .08
-
BCl₃ 유도결합형 플라즈마를 이용한 사파이어 식각특성에 관한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2002 .02
-
자화 유도 결합 플라즈마의 산화물 건식 식각 특성에 관한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2013 .08
-
유기 실리콘 시료를 이용하는 유도결합형 플라즈마 산화막 증착장치에서의 플라즈마 특성연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2001 .07
-
유도결합형 산소 플라즈마를 이용한 다공성 폴리머 필름의 식각 특성 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .08
-
SF6 유도결합형 플라즈마를 이용한 6H - SiC와 GaN의 식각 End - point 측정에 관한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2004 .02
-
고밀도 유도 결합형 플라즈마를 이용한 Mo 건식 식각 특성
한국진공학회 학술발표회초록집
1999 .07
이 논문의 저자 정보
이 논문과 함께 이용한 논문
최근 본 자료
댓글(0)
0
UCI(KEPA) : I410-ECN-0101-2009-554-018014933