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한국진공학회 한국진공학회 학술발표회초록집 한국진공학회 제11회 학술발표회논문개요집
발행연도
1996.6
수록면
158 - 158 (1page)

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1998

자화된 유도결합형 $\textrm{C}_{4}\textrm{F}_{8}$ 플라즈마를 이용한 $\textrm{SiO}_2$ 건식 식각시 실리콘 표면에 발생하는 손상 및 오염에 관한 연구
남욱준 ,  김현수 ,  윤종구 외 1명 한국재료학회지 1998.01 학술저널

1996

자화된 유도결합형 플라즈마 식각공정시 형성된 실리콘표면의 오염 및 손상에 관한 연구
남욱준 ,  이용혁 ,  강민구 외 5명 한국진공학회 학술발표회초록집 1996.06 학술대회자료

1995

고밀도 플라즈마 식각 공정시 형성된 실리콘 표면의 오염 및 손상 제거에 관한 연구
남욱준 ,  김현수 ,  박형호 외 3명 한국진공학회 학술발표회초록집 1995.06 학술대회자료

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플라즈마 식각 공정 시 비 침투적 방법으로 이온에너지 분포 측정 연구
오세진 ,  정진욱 대한전기학회 학술대회 논문집 2005 .07

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