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저널정보
한국진공학회 한국진공학회 학술발표회초록집 한국진공학회 제13회 학술발표회논문개요집
발행연도
1997.7
수록면
213 - 214 (2page)

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이 논문의 연구 히스토리 (4)

1999

고선택비 산화막 식각공정시 C₄F₈ 헬리콘 웨이브 플라즈마에 노출된 실리콘 표면의 잔류막 관찰
김현수 ,  이원정 ,  염근영 한국표면공학회지 1999.04 학술저널

1998

C₄F₈/H₂ helicon wave 플라즈마를 이용한 contact 산화막 식각 공정시 과식각된 실리콘 표면의 잔류막과 손상층 형성 및 이의 제거에 관한 연구
김현수 ,  이원정 ,  백종태 외 1명 한국표면공학회지 1998.04 학술저널
C₄F8 / H₂ 헬리콘 플라즈마를 이용한 산화막 식각시 형성된 잔류막 손상층이 후속 실리사이드 형성 및 전기적 특성에 미치는 효과
김현수 ,  이원정 ,  이용혁 외 2명 한국진공학회 학술발표회초록집 1998.02 학술대회자료

1997

C₄F8 / H₂ 헬리콘 플라즈마를 이용한 고선택비 산화막 식각공정시 실리콘 표면의 오염 및 손상에 관한 연구
김현수 ,  이원정 ,  염근영 외 3명 한국진공학회 학술발표회초록집 1997.07 학술대회자료

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목차

서론

실험방법

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결론

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Oxide 및 Nitride 고선택비 식각 공정에서의 CF4(CHF3)/O2/Ar inductively coupled pulsed plasmas
김희주 ,  신예지 ,  김교운 외 4명 한국진공학회 학술발표회초록집 2020 .02

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