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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 2008.1
- 수록면
- 715 - 718 (4page)
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An in-line wet etch/cleaning system was established for the research and development in wet etch process. The system was equipped with a reverse moving system for the reduction in the size of the in-line wet etch/cleaning system and it was possible for the glass substrate to be moved back and forth and alternated in a wet etch bath. For the comparison of the effect of the normal motion and that of the alternating motion on the in-line wet etch process, indium tin oxide(ITO) pattern was obtained through both wet etch process conditions. The results showed that the alternating motion is not inferior to the normal motion in etch rate and in etch uniformity. It is concluded that the alternating motion is possible to be applied to the in-line etch process.
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I.H. Moon / 2005 / Propulsion force coefficient of injection nozzle size on air levitation type wafer transfer system / Journal of the Semiconductor & Display Equipment T
J.W. Kim / 2005 / A study on design of intelligent wet station for semiconductor / Journal of the Semiconductor & Display Equipment Technology 4 (3) : 29 ~
Meziani, P. Colpo / 2006 / Dry etching of ITO by magnetic pole enhanced inductively coupled plasma for display and biosensing devices Applied Surface / Science 252 (10) : 386
S.Y. Yoo / 2005 / Manufacturing process of 4mask a?Si TFT panel by one step dry etching on Mo/Al/Mo data line / IDW05 : 1121 ~
Y.J. Lee / 2001 / Dry etching characteristics of ITO thin films deposited on plastic substrates / Thin Solid Films 383 (1-2) : 281 ~
J.W. Kim / 2005 / A study on design of intelligent wet station for semiconductor / Journal of the Semiconductor & Display Equipment Technology 4 (3) : 29 ~
Meziani, P. Colpo / 2006 / Dry etching of ITO by magnetic pole enhanced inductively coupled plasma for display and biosensing devices Applied Surface / Science 252 (10) : 386
S.Y. Yoo / 2005 / Manufacturing process of 4mask a?Si TFT panel by one step dry etching on Mo/Al/Mo data line / IDW05 : 1121 ~
Y.J. Lee / 2001 / Dry etching characteristics of ITO thin films deposited on plastic substrates / Thin Solid Films 383 (1-2) : 281 ~
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