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ZnO박막을 R.F. sputtering방법으로 R.F. power와 기판온도를 공정변수로 하여 si(100)과 Al₂O₃(0001)기판에 증착하였다. 공정변수에 다른 박막의 미세구조와 잔류응력 및 광학적 특성 등을 평가하였다.
전반적으로 R.F. Power증가에 따른 박막의 미세구조는 결정립이 커지면서 더 거칠어지는 것으로 나타났다. 기판온도 800℃에서 증착된 박막의 막질이 우수한 것으로 나타났다.
박막의 잔류 응력변화는 R.F. Power보다는 기판온도에 더 의존하는 것으로 나타났다. 대부분의 시편의 잔류응력이 공정변수인 기판온도가 증가할수록 작아지는 것으로 측정되었다. ZnO박막의 열안정성을 평가하기위해 열싸이클링을 실시하였다. 열싸이클링 결과 Al₂O₃(0001)기판에 증착된 박막이 Si(100)기판에 증착된 것보다 열안정성이 우수한 것으로 나타났다.
PL측정의 경우, Al₂O₃기판에 증착된 ZnO박막이 Si기판에 증착된 것보다 UV영억의 발광이 크고 가시광선영역의 발광이 작은 것으로 나타났다. 이것은 박막안의 결함이 작아서 낮은 잔류응력을 갖고 있기 때문인 것으로 생각된다.
전반적으로 R.F. Power증가에 따른 박막의 미세구조는 결정립이 커지면서 더 거칠어지는 것으로 나타났다. 기판온도 800℃에서 증착된 박막의 막질이 우수한 것으로 나타났다.
박막의 잔류 응력변화는 R.F. Power보다는 기판온도에 더 의존하는 것으로 나타났다. 대부분의 시편의 잔류응력이 공정변수인 기판온도가 증가할수록 작아지는 것으로 측정되었다. ZnO박막의 열안정성을 평가하기위해 열싸이클링을 실시하였다. 열싸이클링 결과 Al₂O₃(0001)기판에 증착된 박막이 Si(100)기판에 증착된 것보다 열안정성이 우수한 것으로 나타났다.
PL측정의 경우, Al₂O₃기판에 증착된 ZnO박막이 Si기판에 증착된 것보다 UV영억의 발광이 크고 가시광선영역의 발광이 작은 것으로 나타났다. 이것은 박막안의 결함이 작아서 낮은 잔류응력을 갖고 있기 때문인 것으로 생각된다.
목차
Abstract
1. 서론
2. 실험방법
3. 결과 및 고찰
4. 요약
사사
참고문헌
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