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Characteristics of SiO₂ Films Deposited by Remote-type Atmospheric Pressure PECVD at Low Temperature Using HMDS-O₂-He
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2008 .06
Atmospheric pressure plasma deposition of $SiO_X$ thin films by direct-Type pin-to-plate dielectric barrier discharge for flexible displays
한국정보디스플레이학회 International Meeting
2009 .01
Dielectric Barrier Discharge type 대기압 플라즈마 발생장치를 이용한 SiO₂ 식각에 관한 연구
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2009 .05
Si$O_{2}/{Si}_{0.7}{Ge}_{0.3}/SiO_{2}$계에서의 계면응집현상에 의한 양자점 형성에 관한 연구
한국재료학회 학술발표대회
1997 .01
Plasma Etching of SiO₂ Using Remote-type Pin-To Plate Dielectric Barrier Discharge
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2008 .06
슬젤법에 의해 제작된 SiO₂ 박막 특성 분석
대한전기학회 학술대회 논문집
2005 .11
플라즈마 진단에 의한 PECVD SiO₂ 증착의 불균일성 원인 연구
전기전자재료학회논문지
2011 .01
솔젤법에 의해 제작된 SiO₂ 박막의 물성에 관한 연구
전기학회논문지 C
2004 .11
N₂O 가스에서 열산화한 SiO₂막의 특성
대한전기학회 학술대회 논문집
1992 .07
CO2가스를 이용하여 증착된 터널층의 계면포획밀도의 감소와이를 적용한 저전력비휘발성 메모리 특성
전기전자재료학회논문지
2016 .01
SiO2박막의 열적 질화 ( Thermal Nitridation of Thin SiO2 Film )
전자공학회논문지
1988 .11
$SiO_2$ RF Power와 증착 시간 변화에 따른 고유전 $TiO_2-SiO_2$ 절연막의 특성
한국재료학회 학술발표대회
2007 .01
ECR 플라즈마 방법에 의한 SiO2 박막 제조에 관한 연구 ( A Study on the Fabrication of SiO2 Films by ECR Plasma Method )
대한전자공학회 학술대회
1997 .11
ECR 플라즈마 방법에 SiO₂ 박막 제조에 관한 연구
대한전자공학회 학술대회
1997 .11
630 스테인리스강 위에 스퍼터 증착한 SiO₂ 박막의 절연저항에 관한 연구
한국표면공학회 학술발표회 초록집
1997 .05
SiO2 에어로겔 박막에 대한 O2 플라즈마 처리효과
대한전자공학회 학술대회
1998 .01
산소 이온빔을 이용한 SiO₂ 박막 후처리 연구
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2013 .05
Growth and Analysis of Intermediate SiO2 for the CeO2 / SiO2 Structure
대한전자공학회 학술대회
1997 .01
RF 스퍼터링을 이용한 SiO2 / Ta2O5 , SiO2 / ZrO2 박막의 무반사 특성 ( Anti-Reflection Characteristic of SiO2 / Ta205 , SiO2 / ZrO2 Film using the RF Sputter )
대한전자공학회 학술대회
1992 .11
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