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Effect of heat treatment on HfO₂ charge trapping layer for engineered tunnel barrier non-volatile memory
한국진공학회 학술발표회초록집
2009 .02
Thermal Treatment Effects of Staggered Tunnel Barrier(Si3N4/Ta2O5) for Non Volatile Memory Applications
한국진공학회 학술발표회초록집
2012 .02
Programming/Erasing Characteristics of HfO2 Charge Trap Flash Memory with SiO₂/ZrO₂ as Engineered Tunnel Barrier
한국진공학회 학술발표회초록집
2009 .02
Properties of HfSixOy/HfO₂ film as a various Annealing Temperature
한국진공학회 학술발표회초록집
2008 .08
Improved Erasing Characteristics of Tunnel Barrier Engineered Charge Trap Flash Memory with HfO₂ Charge Trap Layer
한국진공학회 학술발표회초록집
2009 .02
범밀도함수론을 이용한 정방정계-HfO₂/Si의 계면 층 구조 연구
Applied Science and Convergence Technology
2009 .01
Investigation of stacked tunnel barrier with high-k materials for application to non-volatile memory devices
한국진공학회 학술발표회초록집
2009 .02
Effects of N₂ Anneal on Electrical Properties of HfO₂ Film on Si Substrate
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
Heat Treatment Effects of Staggered Tunnel Barrier (Si3N4 / HfAlO) for Non-volatile Memory Application
한국진공학회 학술발표회초록집
2010 .08
Influence of O₂ Anneal on the Electrical Properties of HfO₂ thin Film on Si Substrate
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
Electrical Properties of Al2O3/SiO2 and HfAlO/SiO2 Double Layer with Various Heat Treatment Temperatures for Tunnel Barrier Engineered Memory Applications
한국진공학회 학술발표회초록집
2011 .02
Staggered Tunnel Barrier engineered Memory
한국진공학회 학술발표회초록집
2010 .02
Characteristics of low-temperature at 80°C HfO2 deposited by ALD (Atomic Layer Deposition) and electrical properties of NMOS capacitor
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
RF Sputtering의 증착 조건에 따른 HfO₂ 박막의 Nanocrystal에 의한 Nano-Mechanics 특성 연구
Applied Science and Convergence Technology
2012 .09
Electrical Characteristics in Field-Cycling of Zr:HfO₂ and Si:HfO₂ Ferroelectric Capacitors by First-order reversal curve diagram
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
증착방법에 따른 HfO₂ 게이트 유전막의 특성
한국진공학회 학술발표회초록집
2001 .02
MOSFET 구조내 HfO₂게이트절연막의 Nanoindentation을 통한 Nano-scale의 기계적 특성 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2012 .02
Influence of O₂ Annealing on Electrical Characteristics of Atomic Layer Deposited HfO₂ thin Films on Si Substrate
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .08
Improved memory characteristics using high-k materials for charge trap layer and engineered tunnel barrier
한국진공학회 학술발표회초록집
2009 .02
Effect of Post Deposition Annealing in N₂ Ambient on Electrical Properties of Atomic Layer Deposited HfO₂ Films on Si
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .08
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