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MgF₂ is a current material for the optical applications in the UV and deep UV range. Process variables for manufacturing the MgF₂ thin film were established in order to clarify optimum conditions for growth of the thin film depending upon process conditions, and then by changing a number of vapor deposition conditions and substrate temperature, Annealing conditions variously, structural and Optical characteristics were measured. Thereby, optimum process variables were derived. Nevertheless, modern applications still require improvement of the optical and structural quality of the deposited layers. I ... 전체 초록 보기

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