표면 채널형 0.1㎛ CMOSFET 소자 제작

권혁만 ,  박병국 ,  이종덕

대한전자공학회 학술대회

1996 .11

Dual-Gate Surface Channel 0.1㎛ CMOSFETs

Hyouk Man Kwon ,  Yeong-Taek Lee ,  Jong Duk Lee 외 2명

Journal of Electrical Engineering and information Science

1998 .04

Dual-Poly Gate Surface Channel 0.1mm CMOSFETs

Hyouk Man Kwon ,  Yeong Taek Lee ,  Byung Gook Pa 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1997 .01

A Novel High Voltage CMOSFET of 80 Volts Operation

T. P. Rhee ,  H. I. Chae ,  Y. H. Koh 외 3명

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1997 .01

티타늄샐리사이드 공정을 이용한 0.1㎛ CMOSFET의 전기적특성 개선

엄금용 ,  최성진 ,  조재영 외 1명

대한전자공학회 학술대회

2002 .06

나노급 소자의 핫캐리어 특성 분석

나준희 ,  최서윤 ,  김용구 외 1명

대한전자공학회 학술대회

2004 .06

얕은 쏘오스/드레인 접합 깊이가 Deep Submicron CMOSFET 소자 특성에 미치는 영향 ( Dependence of Deep Submicron CMOSFET Characteristics on Shallow Source/Drain Junction Depth )

노광명 ,  고요환 ,  박찬광 외 3명

전자공학회논문지-A

1996 .04

CHARACTERISTICS of CMOSFETs with SPUTTER-DEPOSITED W / TiN STACKED GATE

Mahn Ho Cho ,  Kye Hee Yeom ,  Duck Hyung Lee 외 3명

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1995 .01

Electrical Characterization of the Wet-Grown Ultra-Thin Gate Oxide and its Application to CMOSFETs

홍성인 ,  이종덕 ,  박병국

대한전자공학회 학술대회

1998 .01

공정 시뮬레이션을 이용한 CMOS소자의 Gate Spacing에 대한 디자인 룰 설정

김도우

대한전기학회 학술대회 논문집

2015 .10

나노급 CMOSFET을 위한 SOI 기판에서의 Ni/Co 증착 두께에 따른 Nickel silicide 특성 분석

정순연 ,  염주호 ,  장흥국 외 8명

대한전자공학회 학술대회

2005 .11

Nano CMOSFET에서 Channel Stress가 소자에 미치는 영향 분석

한인식 ,  지희환 ,  김경민 외 3명

전자공학회논문지-SD

2006 .03

Dependence of the 1/f Noise Characteristics of CMOSFETs on Body Bias in Sub-threshold and Strong Inversion Regions

Sung-Kyu Kwon ,  Hyuk-Min Kwon ,  Ho-Young Kwak 외 10명

JOURNAL OF SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY AND SCIENCE

2013 .12

0.13㎛ CMOSFET의 차단주파수 및 최대진동주파수 특성 분석

김종혁 ,  이성현 ,  김영욱

대한전자공학회 학술대회

2006 .06

CMOS소자의 Metal Contact과 Poly Gate간의 공정 여유도 분석

김도우

대한전기학회 학술대회 논문집

2015 .10

플라즈마 질화산화막을 적용한 CMOSFET의 질소 농도에 따른 저주파 잡음 특성 분석

복정득 ,  한인식 ,  권혁민 외 7명

대한전자공학회 학술대회

2010 .06

Dual-Gate Surface Channel 0.1㎛ CMOSFETs

Hyouk Man Kwon ,  Yeong-Taek Lee ,  Jong Duk Lee 외 2명

Journal of Electrical Engineering and Information Science

1998 .04

Nano-CMOSFET를 위한 플라즈마-질화막의 초기 산화막 성장방법에 따른 소자 특성과 저주파 잡음 특성 분석

주한수 ,  한인식 ,  구태규 외 4명

전기전자재료학회논문지

2007 .01

Nano-Scale CMOSFET에서 Contact Etch Stop Layer의 Mechanical Film Stress에 대한 소자특성 분석

나민기 ,  한인식 ,  최원호 외 5명

전자공학회논문지-SD

2008 .04

PMOSFET에서 Hot Carrier Lifetime은 Hole injection에 의해 지배적이며, Nano-Scale CMOSFET에서의 NMOSFET에 비해 강화된 PMOSFET 열화 관찰

나준희 ,  최시윤 ,  김용구 외 1명

전자공학회논문지-SD

2004 .07