Laser CVD로 형성시킨 SiO2 막 성장 기구의 모델링에 관한 연구

류지호 ,  주유진 ,  허윤종 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1995 .01

레이져 CVD에 의한 SiO₂막의 형성기구 모델링에 관한 연구

류지호 ,  소황영 ,  김영훈 외 1명

대한전기학회 학술대회 논문집

1995 .07

CVD 기술동향

송주호

전자공학회지

2001 .08

DEPOSITION OF A-SIC : H FILMS ON AN UNHEATED SI SUBSTRATE BY LOW FREQUENCY (50㎐) PLASMA Cvd

M. Shimozuma ,  K. Iba ,  agi 외 5명

한국표면공학회지

1996 .12

공정 Simulation에 의한 Laser CVD SiO₂막 형성 기구 규명에 관한 연구

신상우 ,  이상권 ,  김태훈 외 1명

대한전기학회 학술대회 논문집

1997 .07

하구역 퇴적현상 및 퇴적저감을 위한 일반적 원칙

권득용

물과 미래 : 한국수자원학회지

2000 .01

적외선 CVD 방법을 이용한 산화막 성장에 NH3가 미치는 영향 ( Effects of NH3 on the Growth of Oxide Film by Infrared-CVD Method )

이철승 ,  정관수 ,  김철주

전자공학회논문지

1988 .11

RP-CVD로 제작된 실리콘 산화막의 특성 ( Characterization of SiO2 Films Deposited By RP-CVD )

임성실 ,  이태진 ,  강희경 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1991 .01

Laser CVD법에 의해 퇴적된 OXYNITRIDE막의 특성에 관한 고찰

김창덕 ,  신상우 ,  정문남 외 2명

대한전기학회 학술대회 논문집

1996 .07

통계적 기법을 이용한 선택적 CVD 텅스텐 공정 최적화 연구 ( The Optimization of the Selective CVD Tungsten Process using Statistical Methodology )

황성보 ,  최경근 ,  박흥락 외 1명

전자공학회논문지-A

1993 .12

Laser Crystallization of a-Si:H films prepared at Ultra Low Temperature( $ < 150^{\circ}C$) by Catalytic CVD

Lee ,  Sung-Hyun ,  Hong 외 20명

한국정보디스플레이학회 International Meeting

2005 .01

450mm 반도체 CVD 장비 및 300mm F-CVD 공정용 8kW급 주파수 가변형 RF Generator 개발

김대욱 ,  양대기 ,  안영오 외 3명

전력전자학회 학술대회 논문집

2014 .07

새로운 CVD 방법에 의하여 제작된 실리콘 박막의 특성 연구 ( Characterization of Silicon Thin Films Prepared by New CVD Technique )

김성철 ,  이승규 ,  정창영 외 5명

대한전자공학회 학술대회

1989 .07

수면호흡장애 환자의 인공지능 기반 심혈관질환 예측 모델

박종욱 ,  류지승 ,  강승영 외 3명

대한전자공학회 학술대회

2020 .08

초음파를 이용한 CVD 다이아몬드 평가기법

김훈희 ,  송성진 ,  김학준

대한기계학회 춘추학술대회

2011 .05

공정 조건이 N2O 산화막의 전기적 특성에 미치는 영향

김형섭 ,  김선우 ,  강석봉 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1994 .01

CVD 방식 그래핀 코팅의 구조적 특성과 물성

올릭세이 펜코브 ,  김현준 ,  김대은

한국트라이볼로지학회 학술대회

2013 .04

고주파 발진기를 이용한 CVD 장치의 제작 및 평가 ( Fabrication and Evaluation of CVD System using R. F. Generator )

김정회 ,  김철주

대한전자공학회 학술대회

1985 .01