CVD 기술동향

송주호

전자공학회지

2001 .08

DEPOSITION OF A-SIC : H FILMS ON AN UNHEATED SI SUBSTRATE BY LOW FREQUENCY (50㎐) PLASMA Cvd

M. Shimozuma ,  K. Iba ,  agi 외 5명

한국표면공학회지

1996 .12

새로운 NH₃-O₂ 산화 방법 (Ⅱ) : 소자의 전기적 특성

정성안 ,  박선우 ,  김철주

대한전기학회 학술대회 논문집

1988 .07

새로운 CVD 방법에 의하여 제작된 실리콘 박막의 특성 연구 ( Characterization of Silicon Thin Films Prepared by New CVD Technique )

김성철 ,  이승규 ,  정창영 외 5명

대한전자공학회 학술대회

1989 .07

새로운 NH₃-O₂ 산화 방법 (Ⅰ) : 매카니즘 및 결정성

복은경 ,  박선우 ,  김철주

대한전기학회 학술대회 논문집

1988 .07

CVD-Cu film의 특성에 증착온도가 미치는 영향

민재식 ,  이원준 ,  라사균 외 2명

한국재료학회 학술발표대회

1994 .01

CVD Cu의 핵생성 및 성장에 관한 연구

한성희 ,  이종무

한국재료학회 학술발표대회

1993 .01

Laser Crystallization of a-Si:H films prepared at Ultra Low Temperature( $ < 150^{\circ}C$) by Catalytic CVD

Lee ,  Sung-Hyun ,  Hong 외 20명

한국정보디스플레이학회 International Meeting

2005 .01

새로운 NH3-O2 산화방법 ( I ) - 메카니즘 및 결정성 ( A New NH3-O2 Oxidation method ( I ) - Mechanism and Crystal Properties )

복은경 ,  김철주 ,  박선우

대한전자공학회 학술대회

1988 .07

CVD Pt 박막의 증착과 특성 분석

이종명 ,  황철성 ,  석창길 외 1명

한국재료학회 학술발표대회

1997 .01

초음파를 이용한 CVD 다이아몬드 평가기법

김훈희 ,  송성진 ,  김학준

대한기계학회 춘추학술대회

2011 .05

CVD oxide와 aluminum의 이온밀링 특성 ( Ion milling characteristics of CVD oxide and aluminum )

편광의 ,  박형무

대한전자공학회 학술대회

1988 .11

고주파 발진기를 이용한 CVD 장치의 제작 및 평가 ( Fabrication and Evaluation of CVD System using R. F. Generator )

김정회 ,  김철주

대한전자공학회 학술대회

1985 .01

W/TiO 촉매의 NH 단독 산화 반응 특성 연구

김거종 ,  이상문 ,  홍성창

공업화학

2013 .01

RP-CVD로 제작된 실리콘 산화막의 특성 ( Characterization of SiO2 Films Deposited By RP-CVD )

임성실 ,  이태진 ,  강희경 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1991 .01

LOW TEMPERATURE DEPOSITION OFSIO_x FILMS BY PLASMA-ENHANCED CVD USING 100 ㎑ GENERATOR

Nobuyuki Kakinoki ,  Takenobu Suzuki ,  Osamu Takai

한국표면공학회지

1996 .12

수면호흡장애 환자의 인공지능 기반 심혈관질환 예측 모델

박종욱 ,  류지승 ,  강승영 외 3명

대한전자공학회 학술대회

2020 .08

CVD법에 의한 SnO2 Film의 제조에 관한 연구 ( The Study on the Production of SnO2 Film by CVD Method )

이동윤 ,  이희웅 ,  이상래

대한전자공학회 학술대회

1987 .05