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The design of the glass-carrier was studied using simulations of the temperature distribution of an ITO deposition inline-sputter process. The temperature distribution was simulated in Heating Chamber 7, and in the ITO Deposition Chambers 8 and 9. The temperature distribution of the glass sheets was low in both the lower and upper lines. Moreover, it was observed that the temperature in Chamber 8 significantly affected the temperature in Chamber 9, and that the latter was hotter. The rear of the chambers were subjected to more heating than the fronts, so the temperature range at the back was wider. Redesigning the shape of the carrier made it possible to load more glass sheets on the glass carrier, and to make deposits on the ITO glass at higher temperature, over a wider area.
목차
ABSTRACT
1. 서론
2. ITO 증착용 인라인 스퍼터
3. 해석방법
4. 해석 결과 및 고찰
5. 결론
REFERENCES
참고문헌 (5)
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이승현 / 2012 / 원통형 이종 접합 소재의 SiO2/Ag스퍼터 증착과 온도 변화에 따른 기계적 특성에 관한 연구 / 한국기계가공학회지 11(3):138~145
Choi. J. R. / 2013 / Study on Analyze of Thermal Distribution in Inline Sputtering Chambers / J. of KSMPE 2013(11):154
Choi. J. R. / 2014 / A Study on ITO Deposition Characteristics according to Temperature Distribution of Vacuum Chamber / J. of KSPE 2014(5):487
Choi. J. R. / 2014 / The Characteristic of Optimal Temperature Distribution in Vacuum Chamber for Inline Sputter / J. of KSMTE 2014(4):308
Choi. J. R. / 2014 / Carrier Form Design for Temperature Distribution Vacuum Chamber / J. of KSMPE 2014(4):17
Choi. J. R. / 2013 / Study on Analyze of Thermal Distribution in Inline Sputtering Chambers / J. of KSMPE 2013(11):154
Choi. J. R. / 2014 / A Study on ITO Deposition Characteristics according to Temperature Distribution of Vacuum Chamber / J. of KSPE 2014(5):487
Choi. J. R. / 2014 / The Characteristic of Optimal Temperature Distribution in Vacuum Chamber for Inline Sputter / J. of KSMTE 2014(4):308
Choi. J. R. / 2014 / Carrier Form Design for Temperature Distribution Vacuum Chamber / J. of KSMPE 2014(4):17
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