비대칭 DGMOSFET의 도핑분포함수에 따른 DIBL

정학기

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자료유형: 학술저널

저자정보: 정학기 (군산대학교)

저널정보: 한국정보통신학회 한국정보통신학회논문지 한국정보통신학회논문지 제19권 제11호

발행연도: 2015.11

수록면: 2,643 - 2,648 (6page)

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본 연구에서는 비대칭 이중게이트 MOSFET의 채널 내 도핑농도분포에 대한 드레인유도장벽감소(Drain Induced Barrier Lowering; DIBL)에 대하여 분석하고자한다. DIBL은 드레인 전압에 의하여 소스 측 전위장벽이 낮아지는 효과로서 중요한 단채널 효과이다. 이를 분석하기 위하여 포아송방정식을 이용하여 해석학적 전위분포를 구하였으며 전위분포에 영향을 미치는 채널도핑농도의 분포함수변화에 대하여 DIBL을 관찰하였다. 채널길이, 채널두께, 상하 단 게이트 산화막 두께, 하단 게이트 전압 등을 파라미터로 하여 DIBL을 관찰하였다. 결과적으로 DIBL은 채널도핑 농도분포함수의 변수인 이온주입범위 및 분포편차에 변화를 나타냈다. 특히 두 변수에 대한 DIBL의 변화는 최대채널도핑농도가 10<SUB>18</SUB>/㎤ 정도로 고도핑 되었을 경우 더욱 현저히 나타나고 있었다. 채널길이가 감소할수록 그리고 채널두께가 증가할수록 DIBL은 증가하였으며 하단 게이트 전압과 상하단게이트 산화막 두께가 증가할수록 DIBL은 증가하였다.

#비대칭 이중게이트 #드레인 유도 장벽 감소 #포아송방정식 #채널도핑분포 #asymmetric double gate #drain induced barrier lowering #Poisson equation #channel doping profile

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[학술지(정기간행물)] - S.C.Kim / 2014 / Analysis of low-dose radiation shield effectiveness of nulti-gate polymetric sheets / Radiation Effects and Defects in Solid 169 (9) : 584 ~ 591

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