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한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 전기전자재료학회논문지 제18권 제12호
발행연도
2005.1
수록면
1,106 - 1,110 (5page)

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We fabricated (110) silicon hard master by using anisotropic wet etching for embossing. The etching chemical for the silicon wafer was a TMAH 25 % solution. The anisotropic wet etching produces a smooth sidewall surface and the surface roughness of the fabricated master is about 3 nm. After spin coating an organic-inorganic sol-gel hybrid material on a silicon substrate, we employed hot embossing technique operated at a low pressure and temperature to form patterns on the silicon substrate by using the fabricated master. We successfully fabricated the multi-mode planar optical waveguides showing low propagation loss of 0.4 dB/cm. The surface roughness of embossed patterns was uniform for more than 10 times of the embossing processes with a single hydrophobic surface treatment of the silicon hard master.
#Silicon hard master #Anisotropic wet etching #Multi-mode planar waveguide #Embossing

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/ 1996. / Nanoimprint lithography 14 (6) : 4129 ~ google schola / 1997. / Sub-10 nm imprint lithography and applications 15 : 2897 ~ google schola / 1998. / Soft lithography 37 : 550 ~ google schola / 1999. / Polymeric optical waveguide films for short-distance optical interconnects 5 : 1237 ~ google schola / 2000. / Step and flash imprint lithography template surface treatment and defect analysis sreenisan 18 : 3572 ~ google schola

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