지원사업
학술연구/단체지원/교육 등 연구자 활동을 지속하도록 DBpia가 지원하고 있어요.
커뮤니티
연구자들이 자신의 연구와 전문성을 널리 알리고, 새로운 협력의 기회를 만들 수 있는 네트워킹 공간이에요.
이용수
등록된 정보가 없습니다.
논문 유사도에 따라 DBpia 가 추천하는 논문입니다. 함께 보면 좋을 연관 논문을 확인해보세요!
PECVD 실리콘질화막에 대한 이온빔 방사효과
한국재료학회 학술발표대회
1993 .01
Remote PECVD와 Direct PECVD에 의해 증착된 실리콘 산화막의 특성 평가 ( Evaluation of Silicon Oxide Films Deposited by Remote PECVD and Direct PECVD )
대한전자공학회 학술대회
1991 .11
플라즈마 화학증착법으로 제조한 B-doped a-$Si_{1-X}$$C_X$:H 박막을 이용한 비정질 실리콘 박막 태양전지에 관한 연구
한국재료학회 학술발표대회
1998 .01
GaAs 기판위에 PECVD로 증착된 Silicon Nitride의 특성분석
한국재료학회 학술발표대회
1993 .01
PECVD에 의해 제조된 ($Ba_{1-x}Sr_x$)TiO$_3$ 박막의 특성 및 전기적 성질
한국재료학회 학술발표대회
1996 .01
비휘발성 기억소자용 PECVD질화막의 특성에 관한 연구
전기학회논문지
1993 .12
Thin Film Encapsulation for Flexible Electronics using Silicon Nitride deposited by PECVD
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
2012 .04
Effect of deposition rates of PECVD silicon nitride films on passivation for silicon solar cells
한국신·재생에너지학회 학술대회 초록집
2008 .05
Hydrogen Permeation through PECVD-TiO₂ Film by Modulation Method
한국표면공학회 학술발표회 초록집
1993 .11
Effect of Room-temperature Ion Energy on PECVD-SiN Films
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2008 .06
PECVD법에 의한 DLC 박막의 증착
한국표면공학회지
2002 .04
PECVD 비정질 실리콘 증착 반응의 이론적 모델과 실험결과 ( Theoretical Model and Experimental Results of PECVD Amorphous Silicon Deposition Process )
전자공학회논문지
1990 .07
PECVD 비정질 실리콘 증착 반응의 이론적 모델과 실험결과 ( Theoretical Model and Experimental Results of PECVD Amorphous Silicon Deposition Process )
전자공학회논문지
1990 .06
ECR-PECVD와 RF-PECVD법에 의해 증착된 TiN박막의 특성 비교
한국재료학회 학술발표대회
1994 .01
열처리 조건이 PECVD $Ta_{2}O_{5}$ 박막 특성에 미치는 영향
한국재료학회 학술발표대회
1992 .01
PECVD(Plasma enhanced chemical vapor deposition)방법에 의한 a-C:H 박막의 열처리에 관한 연구
한국재료학회 학술발표대회
1996 .01
ECR PECVD에 의한 상온 실리콘 질화막 형성 및 박막 트랜지스터에의 응용 ( Room Temperature Fabrication of Silicon Nitride Films by ECR PECVD and its Application to Thin Film Transistors )
대한전자공학회 학술대회
1992 .11
PECVD법으로 증착된 DLC film의 광학적 특성연구
한국재료학회 학술발표대회
1999 .01
Investigation of the Alignment Phenomena on the a-C:H Thin Films by PECVD System using Ion-beam Alignment Method
Transactions on Electrical and Electronic Materials
2004 .01
Si3N4 기판 위에 PECVD 법으로 형성한 Tungsten Nitride 박막의 특성 ( Characteristic of PECVD-WNx Thin Films Deposited on Si3N4 Substrate )
전자공학회논문지-D
1999 .07
0